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公开(公告)号:CN111196034A
公开(公告)日:2020-05-26
申请号:CN202010046538.1
申请日:2020-01-16
Applicant: 五邑大学 , 中国科学院半导体研究所
IPC: B29C64/188 , B29C64/30 , B33Y10/00 , B33Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种基于氧阻聚效应的3D打印表面形貌修饰方法,3D打印原始形貌的表面涂敷有光敏树脂层,光敏树脂层的上方覆盖有氧渗透薄膜;方法包括以下步骤:在氧渗透薄膜的上方通过含氧气体,并向氧渗透薄膜照射光线;调控含氧气体的压强和光线的波长;使光敏树脂层部分固化,在3D打印原始形貌的表面形成填充区。通过调控含氧气体的压强和光线的波长,实现人工可控地控制光敏树脂层的液态区的深度。且在修饰得到3D打印表面形貌的同时,根据需要保留部分所需的3D打印表面原始形貌。
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公开(公告)号:CN111086216A
公开(公告)日:2020-05-01
申请号:CN201911394365.6
申请日:2019-12-30
Applicant: 五邑大学
IPC: B29C64/379 , B29C59/16 , B33Y40/20
Abstract: 本发明公开了一种基于氧阻聚效应的3D打印表面形貌修饰方法,3D打印原始形貌的表面涂敷有光敏树脂层,光敏树脂层的上方覆盖有氧渗透薄膜;方法包括以下步骤:在氧渗透薄膜的上方通过含氧气体,并向氧渗透薄膜照射光线;调控含氧气体的压强和光线的波长;使光敏树脂层部分固化,在3D打印原始形貌的表面形成填充区。通过调控含氧气体的压强和光线的波长,实现人工可控地控制光敏树脂层的液态区的深度。且在修饰得到3D打印表面形貌的同时,根据需要保留部分所需的3D打印表面原始形貌。
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