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公开(公告)号：CN104749684B
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201410858379.X
申请日：2014-12-24
Applicant: 乐金显示有限公司 , 科思创德国股份有限公司
IPC: G02B5/32
CPC classification number: G03H1/20 , G02B5/0252 , G02B5/0278 , G02B5/32 , G02B27/0103 , G02B27/0944 , G03H1/02 , G03H1/0402 , G03H2001/0264 , G03H2001/0439 , G03H2222/18
Abstract: 本公开涉及一种生产光束成形全息光学元件的方法，该光束成形全息光学元件被构造为生成衍射光束，所述衍射光束被构造为独立于光束在该光束成形全息光学元件上的冲击点而重建扩散器的图像，该方法包括以下步骤：提供记录元件；提供包括特定图案的主元件；形成包括所述记录元件和所述主元件在内的记录层叠，使得所述主元件被布置在所述记录元件的近复制距离内；利用重建光束照射所述记录层叠的至少一部分；利用基准光束照射所述记录层叠的至少一部分，其中，所述重建光束或基准光束中的至少一个穿过所述主元件，以将所述主元件的图案记录到所述记录元件上。
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公开(公告)号：CN106066592A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610258277.3
申请日：2016-04-22
Applicant: 乐金显示有限公司 , 科思创德国股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于制造全息光学元件的方法，该方法通过以下步骤实现：提供记录堆栈，该记录堆栈包括在至少一个支承元件上层压的至少一个记录元件；在照射步骤中采用至少一个记录光束对所述记录堆栈的至少一部分进行照射，其中，在所述照射步骤期间，所述记录堆栈弯曲；提供针对所述记录堆栈的弯曲偏差阈值；以及调节至少一个第一处理参数，使得所述记录堆栈的期望最大弯曲偏差不超过所述弯曲偏差阈值，其中，所述至少一个第一处理参数在所述照射步骤期间影响所述记录堆栈的弯曲性能。
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公开(公告)号：CN106066592B
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201610258277.3
申请日：2016-04-22
Applicant: 乐金显示有限公司 , 科思创德国股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于制造全息光学元件的方法，该方法通过以下步骤实现：提供记录堆栈，该记录堆栈包括在至少一个支承元件上层压的至少一个记录元件；在照射步骤中采用至少一个记录光束对所述记录堆栈的至少一部分进行照射，其中，在所述照射步骤期间，所述记录堆栈弯曲；提供针对所述记录堆栈的弯曲偏差阈值；以及调节至少一个第一处理参数，使得所述记录堆栈的期望最大弯曲偏差不超过所述弯曲偏差阈值，其中，所述至少一个第一处理参数在所述照射步骤期间影响所述记录堆栈的弯曲性能。
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公开(公告)号：CN104749684A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201410858379.X
申请日：2014-12-24
Applicant: 乐金显示有限公司 , 拜尔材料科学股份公司
IPC: G02B5/32
CPC classification number: G03H1/20 , G02B5/0252 , G02B5/0278 , G02B5/32 , G02B27/0103 , G02B27/0944 , G03H1/02 , G03H1/0402 , G03H2001/0264 , G03H2001/0439 , G03H2222/18
Abstract: 本公开涉及一种生产光束成形全息光学元件的方法，该光束成形全息光学元件被构造为生成衍射光束，所述衍射光束被构造为独立于光束在该光束成形全息光学元件上的冲击点而重建扩散器的图像，该方法包括以下步骤：提供记录元件；提供包括特定图案的主元件；形成包括所述记录元件和所述主元件在内的记录层叠，使得所述主元件被布置在所述记录元件的近复制距离内；利用重建光束照射所述记录层叠的至少一部分；利用基准光束照射所述记录层叠的至少一部分，其中，所述重建光束或基准光束中的至少一个穿过所述主元件，以将所述主元件的图案记录到所述记录元件上。
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