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公开(公告)号:CN113253386B
公开(公告)日:2022-08-23
申请号:CN202110543354.0
申请日:2021-05-19
IPC: G02B6/124
Abstract: 本发明提出了一种高效宽带光栅耦合器设计,该设计将光从硅波导中耦合进入顶层介质层,在光栅耦合区域刻蚀顶层介质层波导形成光栅结构,中间多层介质膜及刻蚀区形成的布拉格反射镜共同降低泄露损耗。与此同时,由于光在顶层介质层的光栅图形中出射,使得该设计具有氮化硅光栅的宽带特性。实现了高效宽带的光纤与光芯片耦合,同时实现方法能够与CMOS工艺兼容,无需较小的线宽即可完成制造。
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公开(公告)号:CN113253386A
公开(公告)日:2021-08-13
申请号:CN202110543354.0
申请日:2021-05-19
IPC: G02B6/124
Abstract: 本发明提出了一种高效宽带光栅耦合器设计,该设计将光从硅波导中耦合进入顶层介质层,在光栅耦合区域刻蚀顶层介质层波导形成光栅结构,中间多层介质膜及刻蚀区形成的布拉格反射镜共同降低泄露损耗。与此同时,由于光在顶层介质层的光栅图形中出射,使得该设计具有氮化硅光栅的宽带特性。实现了高效宽带的光纤与光芯片耦合,同时实现方法能够与CMOS工艺兼容,无需较小的线宽即可完成制造。
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