Patent search ap:("丰田自动车株式会社" OR "国立大学法人京都工艺纤维大学") AND inv:"森本尚太" Page 1

1.

发明公开
成膜方法和制造半导体器件的方法无效

公开(公告)号：CN110189981A

公开(公告)日：2019-08-30

申请号：CN201910114298.1

申请日：2019-02-14

Applicant: 丰田自动车株式会社 , 国立大学法人京都工艺纤维大学

Inventor： 永冈达司 , 西中浩之 , 森本尚太 , 吉本昌広

IPC: H01L21/02 , C30B25/02 , C30B29/16

Abstract: 公开一种成膜方法和制造半导体器件的方法。一种在基体上形成掺杂氟的氧化镓膜的成膜方法，包括：在加热所述基体的同时，将溶解有镓化合物和氟化合物的溶液的雾供给到所述基体的表面。在该成膜方法中，掺杂氟的氧化镓膜在所述基体的表面上生成。在该成膜方法中，掺杂氟的氧化镓膜能够在所述基体的表面上适当地形成。

Patent Agency Ranking