光伏装置及其制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104685641B

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201380051189.0

    申请日:2013-09-24

    Abstract: 本发明的主要目的在于提供一种光伏装置及其制造方法,能够降低有害性且提高效率、且使用了化合物半导体。本发明的光伏装置具有:含有化合物半导体的光电变换层、层叠在该光电变换层的表面的半导体层、配置在该半导体层的与光电变换层相反侧的接触层、层叠在该接触层的表面的电极,半导体层含有包含Al、In、P的第一晶体,接触层含有以Ge为主要成分的第二晶体,该光伏装置制造方法包括:在基板上气相生长含有化合物半导体的光电变换层的工序;在形成的光电变换层的表面气相生长具有含有Al、In、P的第一晶体的半导体层的工序;在形成的半导体层的上表面侧气相生长具有以Ge为主要成分的第二晶体的接触层的工序;在形成的接触层的表面形成电极的工序。

    光伏装置及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104685641A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201380051189.0

    申请日:2013-09-24

    Abstract: 本发明的主要目的在于提供一种光伏装置及其制造方法,能够降低有害性且提高效率、且使用了化合物半导体。本发明的光伏装置具有:含有化合物半导体的光电变换层、层叠在该光电变换层的表面的半导体层、配置在该半导体层的与光电变换层相反侧的接触层、层叠在该接触层的表面的电极,半导体层含有包含Al、In、P的第一晶体,接触层含有以Ge为主要成分的第二晶体,该光伏装置制造方法包括:在基板上气相生长含有化合物半导体的光电变换层的工序;在形成的光电变换层的表面气相生长具有含有Al、In、P的第一晶体的半导体层的工序;在形成的半导体层的上表面侧气相生长具有以Ge为主要成分的第二晶体的接触层的工序;在形成的接触层的表面形成电极的工序。

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