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1.

发明授权
钴块镀镍工艺失效

公开(公告)号：CN106507857B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200810077759.4

申请日：2008-11-25

Applicant: 中核北方核燃料元件有限公司

Inventor： 王玉岭 , 邹本慧 , 刘秀 , 朱振平 , 杨勇 , 郭显凤 , 魏东波

IPC: C25D5/18 , C25D3/12 , C25D5/00

Abstract: 本发明涉及一种在钴块表面镀镍工艺，该工艺在钴块电镀前采用阳极电解的方法对钴块进行蚀刻、活化，采用的蚀刻、活化液为盐酸溶液，阴极为钛板或铅板，阳极为钴块；在钴块电镀时采用滚镀方法，镀液采用瓦特型镀液，以硫酸镍为主盐提供镍离子，阳极为镍板，阴极为钴块，滚镀电源采用双脉冲直流电镀电源。本发明工艺使钴块表面所镀的镍层附着强度高、粗糙度小、杂质元素含量低、均匀性好。

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