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公开(公告)号：CN104159685A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201380013055.X
申请日：2013-02-26
Applicant: 中央电气工业株式会社
Inventor： 横田太郎
CPC classification number: B22D11/0611 , B22D21/025
Abstract: 在通过将合金熔液供给至冷却辊(3)的外周面而使其凝固来铸造合金带(4)，并将该合金带(4)破碎来制造稀土磁体用合金片的方法中，通过对冷却辊(3)的外周面实施喷砂处理，从冷却辊(3)的外周面去除附着物，能够降低所得合金片中晶体组织的偏差。实施喷砂处理时，作为投射材料，优选使用中值直径D50为3.0mm以下且包含金属系投射材料、非金属系投射材料以及树脂系投射材料中的任意1种或2种以上的投射材料。另外，实施喷砂处理时，优选使喷出压力为0.10MPa以上且1.00MPa以下。
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