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公开(公告)号：CN103732788A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201380002694.6
申请日：2013-06-20
Applicant: 中外炉工业株式会社
Inventor： 赤野真也
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，即使等离子体与被处理品接近，也能使等离子体与被处理品隔离。本发明的等离子体处理装置1包括腔室（2），该腔室（2）内部具有对被处理品（5）进行保持的保持空间（2a）、以及要形成等离子体的等离子体空间（2b）；向等离子体空间内（2b）放出电子来形成等离子体的等离子体枪（3）；以及在保持空间（2a）与等离子体空间（2b）之间形成横穿腔室（2）的磁通的至少一对位置可调节的对置磁铁（4）。
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公开(公告)号：CN103732788B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201380002694.6
申请日：2013-06-20
Applicant: 中外炉工业株式会社
Inventor： 赤野真也
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，即使等离子体与被处理品接近，也能使等离子体与被处理品隔离。本发明的等离子体处理装置1包括腔室（2），该腔室（2）内部具有对被处理品（5）进行保持的保持空间（2a）、以及要形成等离子体的等离子体空间（2b）；向等离子体空间内（2b）放出电子来形成等离子体的等离子体枪（3）；以及在保持空间（2a）与等离子体空间（2b）之间形成横穿腔室（2）的磁通的至少一对位置可调节的对置磁铁（4）。
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公开(公告)号：CN103597913B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201380001628.7
申请日：2013-02-27
Applicant: 中外炉工业株式会社
CPC classification number: H01J37/3266 , C23C14/32
Abstract: 本发明提供一种能够形成适用于等离子体辅助法的等离子体的等离子体发生装置。该等离子体发生装置的特征在于，包括：腔室（2）；等离子体枪（3），该等离子体枪（3）设置成朝向腔室（2）的内部，且具有放出电子的阴极（7）、和形成对阴极（7）所放出的电子进行引导的磁通的收束线圈（11）；以及辅助磁铁（4），该辅助磁铁（4）在腔室（2）的内部形成磁通，而且，对收束线圈（11）施加使磁通的方向发生变动的励磁电流。
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公开(公告)号：CN103597913A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201380001628.7
申请日：2013-02-27
Applicant: 中外炉工业株式会社
CPC classification number: H01J37/3266 , C23C14/32
Abstract: 本发明提供一种能够形成适用于等离子体辅助法的等离子体的等离子体发生装置。该等离子体发生装置的特征在于，包括：腔室（2）；等离子体枪（3），该等离子体枪（3）设置成朝向腔室（2）的内部，且具有放出电子的阴极（7）、和形成对阴极（7）所放出的电子进行引导的磁通的收束线圈（11）；以及辅助磁铁（4），该辅助磁铁（4）在腔室（2）的内部形成磁通，而且，对收束线圈（11）施加使磁通的方向发生变动的励磁电流。
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