用于产生均匀磁场梯度的装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113075601A

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202110517881.4

    申请日:2021-05-12

    Abstract: 本发明涉及用于产生均匀磁场梯度的装置。根据一实施例,一种用于产生磁场梯度的装置可包括彼此相对设置的两个瓦片状导电条,每个瓦片状导电条沿长度方向笔直延伸,并且在与所述长度方向垂直的横截面内具有抛物线形状,所述两个瓦片状导电条设置为其凹陷侧彼此相对。通过优化所述抛物线形状,本发明的装置能产生均匀的磁场梯度,从而提高相关磁测量的精确度。

    用于产生均匀磁场梯度的装置和磁测量装置

    公开(公告)号:CN215263982U

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202121009874.5

    申请日:2021-05-12

    Abstract: 本实用新型涉及用于产生均匀磁场梯度的装置和磁测量装置。根据一实施例,一种用于产生均匀磁场梯度的装置可包括彼此相对设置的两个瓦片状导电条,每个瓦片状导电条沿长度方向笔直延伸,并且在与所述长度方向垂直的横截面内具有抛物线形状,所述两个瓦片状导电条设置为其凹陷侧彼此相对。通过优化所述抛物线形状,本实用新型的装置能产生均匀的磁场梯度,从而提高相关磁测量的精确度。

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