真空紫外光谱辐射计
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115979421A

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN202310070862.0

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 本申请提供一种真空紫外光谱辐射计,包括:真空舱,用于提供真空环境;离轴光学聚焦系统,设置在所述真空舱内;其中,所述离轴光学聚焦系统包括:限束光阑,用于限制光束,光源发射的发散光束中的至少部分通过限束光阑的通光孔进入离轴光学聚焦系统;聚光单元,设置在入射光束的光路上,用于接收入射光束,并使入射光束变为会聚光束;分光单元,设置在聚光单元和探测单元之间的光路中,用于使会聚光束在入射至探测单元之前部分地通过;探测单元,用于接收并检测通过所述分光单元的光束。

    一种真空紫外滤光片
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116047644A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202310133348.7

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 本申请属于薄膜光学技术领域。本申请公开了一种真空紫外滤光片,其包括保护层、滤光层和增透层;滤光层设于保护层的一侧滤光层包括至少一个第一滤光单元,第一滤光单元依次包括Al层和SiO2层;增透层设于滤光层远离保护层的一侧。本申请的真空紫外滤光片用于透过波长200nm以下波段的紫外线。通过选用稳定的材料、适中的膜层厚度和合适膜层层数,使真空紫外滤光片能够稳定有效地透过200nm以下波段的紫外线。

    一种真空系统
    3.
    发明公开
    一种真空系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN116046166A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202310070866.9

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 本申请提供一种真空系统,用于紫外光谱辐射检测,真空系统包括:真空舱和抽真空装置,抽真空装置用于对真空舱进行抽真空;真空舱包括真空舱体和真空舱盖,真空舱体与真空舱盖围合成一密闭容纳腔;真空舱采用屈服应力高于5.050×108N/m2的金属材料制成,并在真空舱的外表面采用加强筋进行加固,真空舱的体积大于或等于1.8375×104cm3,并且真空舱的体积小于或等于4.5×104cm3。本申请提供的真空舱在6×10‑3Pa的工作真空度依旧不会发生明显变形,满足真空紫外光谱辐射的检测需求。

    真空舱
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218916535U

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202320136021.0

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 本申请提供真空舱,用于真空紫外光谱辐射检测,包括:所述真空舱包括至少两个封闭的腔体以及真空泵组;其中,第一腔体用于设置待测光源,第二腔体用于设置所述真空紫外光谱辐射计,所述第二腔体包括至少两个通孔,第一通孔与第一腔体连接,第二通孔与所述真空泵组连接。本申请提供的真空舱包括用于设置光源的第一腔体,无需利用法兰将光源固定,解决了光源接口不同所导致的装卸操作繁琐的问题。

    真空紫外光学系统的调节机构

    公开(公告)号:CN219435113U

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202320207352.9

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 本发明公开了一种真空紫外光学系统调节机构。包括:光学组件和调节机构,调节机构用于支撑光学组件并可供调节光学组。调节机构包括:调节支撑件、连接光学组件和底座,形成有一个容纳空间。调节支撑件至少部分设置在容纳空间内;基座,可供底座连接并封闭至少部分的容纳空间;调节板,位于容纳空间内并至少部分设置在调节支撑件和底座之间;调节板形成有一个调节孔,调节支撑件至少部分穿过调节孔并能在调节孔内自由运动;调节板包括允许调节支撑件运动的第一状态和限制调节支撑件运动的第二状态;当调节板处于第一状态时,调节支撑件能在调节孔内自由运动;当调节板处于第二状态时,调节支撑件被调节板限位。该真空紫外光学系统的调节机构操作方便,可以平移、旋转,方便进行光学系统的调节。

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