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公开(公告)号:CN104449717A
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN201410684988.8
申请日:2014-11-24
Applicant: 中国科学院青海盐湖研究所
IPC: C09K11/78
Abstract: 本发明公开了一种铕掺杂的硼酸钇薄膜的厚度调控方法,包括:1)将水溶性钇盐、氧化铕、氨水、醇和水混合;2)向步骤1)得到的混合物中加入硼源,所述硼源为硼酸或硼酸酯;3)步骤2)得到的混合物反应24~48h;4)使用浸渍提拉法对硅底片进行镀膜,镀膜速度为0.88~1.52mm/s,镀膜后置于马弗炉中进行200~600℃煅烧;此过程反复1-6次;5)薄膜达到预期厚度后置于1000℃以下进行退火,得到YBO3:Eu3+薄膜,所述预期厚度为10~100nm。本发明的优点在于:溶胶-凝胶浸渍提拉镀膜法制备YBO3:Eu3+纳米材料,具有厚度可控和特殊形貌的优势。
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公开(公告)号:CN104371720B
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:CN201410682116.8
申请日:2014-11-24
Applicant: 中国科学院青海盐湖研究所
IPC: C09K11/78
Abstract: 本发明公开了一种铕掺杂的硼酸钇薄膜的发光性能的调控方法,包括1)水溶性钇盐、水溶性铕盐、硼酸和醇的水溶液混合,所述醇和水混溶;2)向步骤2)得到的混合物中加入交联剂和螯合剂;3)步骤2)得到的混合物反应3~5h后静置24~48h;4)对硅底片进行镀膜,镀膜速率为0.88~1.52mm/s;5)镀膜后进行煅烧、退火,得到YBO3:Eu3+薄膜。本发明的优点在于:溶胶‑凝胶浸渍提拉镀膜法制备YBO3:Eu3+纳米材料,具有设备简单、低成本、反应温度低、化学成分易控制、发光光谱可调控(橙色发光峰调弱、红色发光峰红移)的优势。
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公开(公告)号:CN104449716B
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:CN201410679845.8
申请日:2014-11-24
Applicant: 中国科学院青海盐湖研究所
IPC: C09K11/78
Abstract: 本发明公开了一种铕掺杂的硼酸钇薄膜的制备方法,包括1)水溶性的铕盐、水溶性的钇盐、硼酸、水和醇类溶剂混合,所述醇类溶剂和水混溶;2)向步骤1)得到的混合体系中加入螯合剂和交联剂;3)步骤2)得到的混合体系反应3~5h后静置24‑48h;4)通过浸渍提拉的方式进行镀膜,硅底片以0.3~0.5cm/s镀膜速度浸入盛有溶液的烧杯中,静置5~10s,再以同样的速度提拉,即完成镀膜;5)硅底片镀膜后置于马弗炉中进行400~600℃煅烧10~15min、400‑1000℃退火1~2h,得到YBO3:Eu3+薄膜。本发明的优点在于:溶胶‑凝胶浸渍提拉镀膜法制备YBO3:Eu3+纳米材料,具有设备简单、低成本、反应温度低、化学成分易控制的优势。
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公开(公告)号:CN104449717B
公开(公告)日:2016-05-18
申请号:CN201410684988.8
申请日:2014-11-24
Applicant: 中国科学院青海盐湖研究所
IPC: C09K11/78
Abstract: 本发明公开了一种铕掺杂的硼酸钇薄膜的厚度调控方法,包括:1)将水溶性钇盐、氧化铕、氨水、醇和水混合;2)向步骤1)得到的混合物中加入硼源,所述硼源为硼酸或硼酸酯;3)步骤2)得到的混合物反应24~48h;4)使用浸渍提拉法对硅底片进行镀膜,镀膜速度为0.88~1.52mm/s,镀膜后置于马弗炉中进行200~600℃煅烧;此过程反复1-6次;5)薄膜达到预期厚度后置于1000℃以下进行退火,得到YBO3:Eu3+薄膜,所述预期厚度为10~100nm。本发明的优点在于:溶胶-凝胶浸渍提拉镀膜法制备YBO3:Eu3+纳米材料,具有厚度可控和特殊形貌的优势。
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公开(公告)号:CN104449716A
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN201410679845.8
申请日:2014-11-24
Applicant: 中国科学院青海盐湖研究所
IPC: C09K11/78
Abstract: 本发明公开了一种铕掺杂的硼酸钇薄膜的制备方法,包括1)水溶性的铕盐、水溶性的钇盐、硼酸、水和醇类溶剂混合,所述醇类溶剂和水混溶;2)向步骤1)得到的混合体系中加入螯合剂和交联剂;3)步骤2)得到的混合体系反应3~5h后静置24-48h;4)通过浸渍提拉的方式进行镀膜,硅底片以0.3~0.5cm/s镀膜速度浸入盛有溶液的烧杯中,静置5~10s,再以同样的速度提拉,即完成镀膜;5)硅底片镀膜后置于马弗炉中进行400~600℃煅烧10~15min、400-1000℃退火1~2h,得到YBO3:Eu3+薄膜。本发明的优点在于:溶胶-凝胶浸渍提拉镀膜法制备YBO3:Eu3+纳米材料,具有设备简单、低成本、反应温度低、化学成分易控制的优势。
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公开(公告)号:CN104371720A
公开(公告)日:2015-02-25
申请号:CN201410682116.8
申请日:2014-11-24
Applicant: 中国科学院青海盐湖研究所
IPC: C09K11/78
Abstract: 本发明公开了一种铕掺杂的硼酸钇薄膜的发光性能的调控方法,包括1)水溶性钇盐、水溶性铕盐、硼酸和醇的水溶液混合,所述醇和水混溶;2)向步骤2)得到的混合物中加入交联剂和螯合剂;3)步骤2)得到的混合物反应3~5h后静置24~48h;4)对硅底片进行镀膜,镀膜速率为0.88~1.52mm/s;5)镀膜后进行煅烧、退火,得到YBO3:Eu3+薄膜。本发明的优点在于:溶胶-凝胶浸渍提拉镀膜法制备YBO3:Eu3+纳米材料,具有设备简单、低成本、反应温度低、化学成分易控制、发光光谱可调控(橙色发光峰调弱、红色发光峰红移)的优势。
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