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公开(公告)号：CN102435397A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201110261087.4
申请日：2011-09-06
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01M3/04
Abstract: 一种SF6泄漏的红外探测显示系统，涉及电子学领域，它解决了现有探测显示系统采用DSP实现高速图像处理的同时需要借助PC机显示完成，无法满足系统独立性和便携性的要求，并且现有SF6气体泄露的检测方法的计算量大、复杂度高，采用帧间差分法检测存在漏检、不准确等问题，采用ARM强大的控制能力结合DSP高速图像处理能力，在诊断SF6泄漏的现场进行红外视频图像的实时采集与显示，将采集的多帧红外序列图像进行预处理、模板匹配、取平均值、差分倍增、自适应阈值分割、形态学开运算及中值滤波算法处理，并通过伪彩色将泄漏的SF6气体清晰地显示在系统的LCD屏上。本发明能够高效准确地实现SF6泄漏的探测和显示。
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公开(公告)号：CN108051985A
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201711303874.4
申请日：2017-12-11
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70025
Abstract: 本发明提供了一种基于软光刻的复合微纳结构抑菌薄膜制备系统及其制备方法。所述基于软光刻的复合微纳结构抑菌薄膜制备系统，包括：计算机、激光光源、激光光束整形器、激光扩束器、光刻图形生成器、光刻投影镜头、样品平台及平台运动控制器；光刻图形通过计算机输入到所述光刻图形生成器中，所述激光光源发出的光束依次通过激光光束整形器和光束扩束器后照射到所述图形生成器表面，所述光束经所述图形生成器反射后经过所述光刻投影镜头将所述光刻图形投影到待加工样品上，在待加工样品上形成具有抑菌作用的周期性表面结构；所述样品台用于放置待加工样品，所述平台运动控制器用于控制所述样品平台的扫描曝光运动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111077734A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201811215327.5
申请日：2018-10-18
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明实施例公开了一种采用激光干涉光刻技术制作无调制阵列结构的系统及相应的方法。该系统利用激光作为发光光源，通过整形、准直、分束形成三束相干光束，这三束相干光束在基片平面汇聚、干涉，使得光强在干涉场内重新分布，从而很容易获得大小一致、分布均匀的周期性结构，在制作过程中无调制出现，这种周期性图形结构可广泛应用于功能性表面及器件等领域。
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公开(公告)号：CN108037641A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201711335580.X
申请日：2017-12-14
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
CPC classification number: G03F7/2053 , G03F7/0005
Abstract: 本发明提供了一种基于有效光强分布的蛾眼结构制备系统及其制备方法。所述系统包括：固体激光器、光束整形器、光束扩束器、光束分束器、光束调整及能量控制组件、二维位移样品台和计算机；所述固体激光器发出激光光束后，所述激光光束依次经所述光束整形器、光束扩束器和光束分束器后形成六束或六束以上相干光束，再经光束调整及能量控制组件后，在位于所述二维位移样品台的样品表面干涉形成周期性蛾眼结构干涉图样，所述二维位移样品台的移动可通过计算机或人工控制，所述光束分束器用于实现相干光束的分光。本发明极大地降低了系统的复杂程度，提高了整个光刻系统的灵活性，应用环境和领域将更为广泛。
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公开(公告)号：CN101936771A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010241767.5
申请日：2010-08-02
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 红外成像测温式能流密度测量装置。属于光电技术领域中红外测试设备。该装置由耐高温聚光光斑接收屏1、红外成像系统2、数据处理系统3组成。光斑接收屏1安置在光斑位置，红外成像系统2和接收屏的光谱特性是经过标准光源标定的，接收屏的热学特性亦在实验室进行提前标定，所有标定数据已存入数据处理系统3的软件数据库。通过数据处理系统3可测量聚光光斑的温度分布并计算能流密度分布。可实时测量高温聚光光斑能流密度分布或离线测量某次试验的聚光光斑能流密度分布。该装置的优点是确保仪器及操作人员安全；测量速度快、精度高；接收屏尺寸可以灵活调整，光斑能流密度测量范围无盲区。
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公开(公告)号：CN108037549A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201711303864.0
申请日：2017-12-11
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种接触屏及其制备方法。本发明提供的一种接触屏的制备方法，包括步骤：S01、利用自组装的方式，在基片表面镀膜；S02、通过高温加热并退火，在基片表面形成金属纳米颗粒层，所述金属纳米颗粒的特征尺寸为10nm‑100nm；S03、利用感应耦合等离子体刻蚀或反应离子束刻蚀对基片进行加工，在所述金属纳米颗粒层的下方形成微纳锥状结构表面。通过本发明的技术，降低了加工成本，简化了使用过程，还可以有效的抑制表面细菌的滋生，具有低成本、大面积及无污染的高效抑菌优势，大幅提升其生物耐用性。
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公开(公告)号：CN111077735A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201811215346.8
申请日：2018-10-18
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供的双周期结构制备系统及方法，利用激光经过扩束整形以及调控后得到的六束相干光，在样品表面汇聚形成干涉场，使得激光光强在干涉场内重新分布，材料表面形成具有周期性双周期结构图形，在进行光刻时，可以无需掩模而直接或者间接在材料上进行干涉曝光，通过调整想干光束的空间角和入射角，形成具有六边形、双周期分布的仿生双周期结构。
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