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公开(公告)号:CN102560338A
公开(公告)日:2012-07-11
申请号:CN201010580583.1
申请日:2010-12-09
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 一种金属陶瓷涂层:由金属相母体和弥散分布纳米晶氮化物相颗粒组成;所述金属相(b)为含固溶强化合金组元的合金相或者纯金属;氮化物相(c)弥散分布于金属相(b)中,其中氮化物(c)的体积分数为5~60%。一种金属陶瓷涂层制备方法,具体使用真空物理气相沉积类型方法;制备过程包含三个步骤:(1)零件必须置于真空室(e)内,(2)在真空室(e)内通入反应气体(f),(3)使靶(g)表面的物质形成气相(h)。本发明所述涂层具有较高的断裂韧性、抗氧化性能和耐腐蚀性能,具有较高的氧化膜的粘附性,较好的硬度和耐磨性。涂层制备工艺简单,制备后不需要经过真空退火等后续处理,具有较高的生产效率。
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公开(公告)号:CN102560338B
公开(公告)日:2014-01-08
申请号:CN201010580583.1
申请日:2010-12-09
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 一种金属陶瓷涂层:由金属相母体和弥散分布纳米晶氮化物相颗粒组成;所述金属相(b)为含固溶强化合金组元的合金相或者纯金属;氮化物相(c)弥散分布于金属相(b)中,其中氮化物(c)的体积分数为5~60%。一种金属陶瓷涂层制备方法,具体使用真空物理气相沉积类型方法;制备过程包含三个步骤:(1)零件必须置于真空室(e)内,(2)在真空室(e)内通入反应气体(f),(3)使靶(g)表面的物质形成气相(h)。本发明所述涂层具有较高的断裂韧性、抗氧化性能和耐腐蚀性能,具有较高的氧化膜的粘附性,较好的硬度和耐磨性。涂层制备工艺简单,制备后不需要经过真空退火等后续处理,具有较高的生产效率。
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