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公开(公告)号：CN103087286B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201310004147.3
申请日：2013-01-07
Applicant: 中国科学院过程工程研究所 , 北京优美特纳米材料科技有限公司
IPC: C08G18/61 , C08G18/12 , C09D175/04 , D06M15/653
Abstract: 本发明涉及一种水性聚氨酯弹性分散体的制备方法，所述方法包括如下步骤：（1）硅氧烷聚合物的合成；由式（I）所示的化合物与式（II）所示的化合物聚合得到硅氧烷聚合物；（2）制备水性聚氨酯弹性分散体，其原料包括步骤（1）得到的硅氧烷聚合物。本发明提供的弹性聚氨酯分散体成膜后，除具有优秀的拉伸强度、回弹性及耐磨、耐水、耐乙醇性能外，其还具有手感柔软光滑，高透光的特性；不用外加填料，仅仅通过组份的调整使产品具有高度消光或磨砂的观感，成膜后柔软，适用于纸张、布、皮革等软基质，制备工艺简单、易操作。
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公开(公告)号：CN103087286A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201310004147.3
申请日：2013-01-07
Applicant: 中国科学院过程工程研究所 , 北京优美特纳米材料科技有限公司
IPC: C08G18/61 , C08G18/12 , C09D175/04 , D06M15/653
Abstract: 本发明涉及一种水性聚氨酯弹性分散体的制备方法，所述方法包括如下步骤：（1）硅氧烷聚合物的合成；由式（I）所示的化合物与式（II）所示的化合物聚合得到硅氧烷聚合物；（2）制备水性聚氨酯弹性分散体，其原料包括步骤（1）得到的硅氧烷聚合物。本发明提供的弹性聚氨酯分散体成膜后，除具有优秀的拉伸强度、回弹性及耐磨、耐水、耐乙醇性能外，其还具有手感柔软光滑，高透光的特性；不用外加填料，仅仅通过组份的调整使产品具有高度消光或磨砂的观感，成膜后柔软，适用于纸张、布、皮革等软基质，制备工艺简单、易操作。
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公开(公告)号：CN104312256A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201410642407.4
申请日：2014-11-07
Applicant: 北京优美特纳米材料科技有限公司
IPC: C09D7/12 , A01N25/30 , C08G65/336 , C07F7/08
Abstract: 本发明属于有机硅表面润湿剂技术领域，特别涉及一种聚醚改性三硅氧烷润湿剂及其制备与应用方法。本发明聚醚改性三硅氧烷润湿剂，以纳米孔洞材料负载Pt(0)催化剂，在反应器中，反应(反应时间≤2h)得到所述聚醚改性三硅氧烷润湿剂；本发明聚醚改性三硅氧烷润湿剂的粘度20～100cSt，表面张力≤21mN/m，在水性涂料中使用时，可以在较高环境温度：40～70℃，碱性条件：pH＝10，长时间200小时老化后，仍然对基材具有良好的润湿性，涂膜不产生缩孔和斑点；本发明聚醚改性三硅氧烷润湿剂，可以应用于水性皮革整理剂(高温涂饰)、水性涂料、木器漆以及农用化学试剂等领域，具有快速延展性、湿润性和环境适应性。本发明方法生产效率高、生产成本低、操作简单、无毒环保。
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公开(公告)号：CN102807810A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201110144751.7
申请日：2011-05-31
Applicant: 北京优美特纳米材料科技有限公司
IPC: C09D175/04 , C09D175/06 , C09D7/12 , C08G18/66 , C08J7/04 , C08L27/06
Abstract: 本发明提供了一种用于无粉PVC手套的WPU涂料，按重量百分比计，其由以组分制成：水性聚氨酯乳液：15-30％；消光粉：2-5％；基材润湿剂：5-10％；增稠剂：5-10％；增滑剂：2-3％；去离子水：50-70％，且以上各组分的重量百分数之和为100％。本发明还提供了制备所述用于无粉PVC手套的WPU涂料的方法。
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公开(公告)号：CN102807810B
公开(公告)日：2015-02-18
申请号：CN201110144751.7
申请日：2011-05-31
Applicant: 北京优美特纳米材料科技有限公司
IPC: C09D175/04 , C09D175/06 , C09D7/12 , C08G18/66 , C08J7/04 , C08L27/06
Abstract: 本发明提供了一种用于无粉PVC手套的WPU涂料，按重量百分比计，其由以组分制成：水性聚氨酯乳液：15-30％；消光粉：2-5％；基材润湿剂：5-10％；增稠剂：5-10％；增滑剂：2-3％；去离子水：50-70％，且以上各组分的重量百分数之和为100％。本发明还提供了制备所述用于无粉PVC手套的WPU涂料的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115893483A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202310000644.X
申请日：2023-01-03
Applicant: 优美特(北京)环境材料科技股份公司 , 中国科学院过程工程研究所
Abstract: 本发明提供了一种中空笼状十八面体SrTiO3及其制备方法和应用，制备方法包括：将钛源、锶源、形貌调节剂和碱溶液混合，得到混合溶液，将混合溶液在搅拌下进行水热反应，得到中空笼状十八面体SrTiO3；碱溶液中碱的浓度为2~4mol/L，碱包括NaOH和LiOH，形貌调节剂包括乙二醇和/或1,2‑丙二醇，形貌调节剂还包括乙二醇甲醚，搅拌的转速为1~20r/min。本发明制备出规则的中空笼状十八面体SrTiO3单晶，保留了大部分（110）晶面，（100）晶面被部分或完全解离，实现SrTiO3颗粒活性位点的暴露和相对比面积的调节，增大了氧空位、金属空位活性位点的暴露，增大了光催化的比表面积。
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公开(公告)号：CN115627092B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211575693.8
申请日：2022-12-09
Applicant: 优美特(北京)环境材料科技股份公司 , 中国科学院过程工程研究所
IPC: C09D7/61 , C09D7/63 , C09D7/65 , C09D5/08 , C09D163/00
Abstract: 本发明涉及一种水性涂料及其制备方法，所述水性涂料包括水性涂料基体、十八面体钛酸锶和调节剂；所述调节剂包括有机表面活性剂、丙烯酸、乙二醇甲醚、异丙醇和聚乙烯醇的组合；所述有机表面活性剂为能够溶于水且带有负电的短链化合物。本发明所述的水性涂料制备过程简单，成本较低，体系的稳定性高，调节剂和十八面体钛酸锶的加入几乎不影响体系的粘稠度、透明度与涂敷特性等指标。
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公开(公告)号：CN1281488C
公开(公告)日：2006-10-25
申请号：CN200410049864.9
申请日：2004-06-25
Applicant: 中国科学院过程工程研究所
IPC: C01B33/113 , C01B33/18
Abstract: 本发明涉及一种纳米高纯二氧化硅的制备方法，其为在高频等离子体气相氧化反应装置中采用等离子体气相法制备纳米SiO2，包括：将空气或氧气净化后送入高频等离子体发生器，在震荡功率30KW、频率3～4MHz的条件下，产生等离子态的氧；将SiCl4在200～300℃温度下气化后，送入等离子体化学反应器，与氧等离子体在1200～1800℃下进行反应，反应物在反应器内停留0.15～1秒，采用除疤装置除疤，送入的SiCl4与氧气的摩尔比为1∶1.2～2；最后通入干燥的空气或N2气，将二氧化硅晶核淬冷至300℃以下，收集粉体、除氯，得到本发明的纳米高纯二氧化硅。该方法工艺流程简单，产品粉体不易团聚，分散度好，产品颗粒的尺寸、分布和形貌可控，且生产量大，不会带来环境问题。
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公开(公告)号：CN1712352A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：CN200410049864.9
申请日：2004-06-25
Applicant: 中国科学院过程工程研究所
IPC: C01B33/113 , C01B33/18
Abstract: 本发明涉及一种纳米高纯二氧化硅的制备方法，其为在高频等离子体气相氧化反应装置中采用等离子体气相法制备纳米SiO2，包括：将空气或氧气净化后送入高频等离子体发生器，在震荡功率30KW、频率3～4MHz的条件下，产生等离子态的氧；将SiCl4在200～300℃温度下气化后，送入等离子体化学反应器，与氧等离子体在1200～1800℃下进行反应，反应物在反应器内停留0.15～1秒，采用除疤装置除疤，送入的SiCl4与氧气的摩尔比为1∶1.2～2；最后通入干燥的空气或N2气，将二氧化硅晶核淬冷至300℃以下，收集粉体、除氯，得到本发明的纳米高纯二氧化硅。该方法工艺流程简单，产品粉体不易团聚，分散度好，产品颗粒的尺寸、分布和形貌可控，且生产量大，不会带来环境问题。
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公开(公告)号：CN115893483B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202310000644.X
申请日：2023-01-03
Applicant: 优美特(北京)环境材料科技股份公司 , 中国科学院过程工程研究所
Abstract: 本发明提供了一种中空笼状十八面体SrTiO3及其制备方法和应用，制备方法包括：将钛源、锶源、形貌调节剂和碱溶液混合，得到混合溶液，将混合溶液在搅拌下进行水热反应，得到中空笼状十八面体SrTiO3；碱溶液中碱的浓度为2~4mol/L，碱包括NaOH和LiOH，形貌调节剂包括乙二醇和/或1,2‑丙二醇，形貌调节剂还包括乙二醇甲醚，搅拌的转速为1 20r/min。本发明制备~出规则的中空笼状十八面体SrTiO3单晶，保留了大部分（110）晶面，（100）晶面被部分或完全解离，实现SrTiO3颗粒活性位点的暴露和相对比面积的调节，增大了氧空位、金属空位活性位点的暴露，增大了光催化的比表面积。
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