一种中空纤维气体分离膜组件缺陷消除方法

    公开(公告)号:CN115105965A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202110288531.5

    申请日:2021-03-17

    Abstract: 本发明涉及气体分离膜技术领域,具体涉及一种中空纤维气体分离膜组件缺陷消除方法。所述的技术方案为:将多元胺(或多元醇)和多元酰氯(或多异氰酸酯/多环氧化合物)分别溶解在水相和油相中。将已经封装完成的、含少量缺陷的中空纤维膜组件的壳层和芯层接口分别与注射泵相连,使用注射泵分别向中空纤维膜组件的壳层与芯层中通入油相和水相发生反应。通过界面聚合在中空纤维气体分离膜的缺陷处形成薄膜,从而达到消除中空纤维气体分离膜缺陷的目的。由于水相和油相仅能在缺陷处接触并发生界面聚合反应,避免了传统多次浸渍消除膜缺陷的繁琐方法,且最大限度降低了传统浸渍方法对膜结构的破坏。通过界面聚合消除中空纤维气体分离膜缺陷,该方法成本低、易于操作、缺陷消除效果好且界面聚合膜强度高,有效提高膜组件的利用率和气体分离选择性。

    一种等离子体增强中空纤维气体分离膜化学气相沉积的方法及应用

    公开(公告)号:CN119926208A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202510215601.2

    申请日:2025-02-26

    Abstract: 本发明公开了一种等离子体增强中空纤维气体分离膜化学气相沉积的方法及应用。所述中空纤维气体分离膜材料是聚合物,具体选自聚砜(PSf)、聚醚砜(PES)、聚酰亚胺(PI)、聚苯并咪唑(PBI)、醋酸纤维素(CA)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚酰胺酰亚胺中的任一种。采用干喷/湿纺工艺制备中空纤维膜,并利用等离子体增强化学气相沉积技术对其表面皮层进行功能化修饰,激发气源选自H2、CH4、Ar、N2、CF4、O2和NH3中的一种或多种。该技术能够调控中空纤维膜皮层微孔结构与孔道化学性质,形成致密、超薄、均匀且可控的原子级选择层,显著提升气体分离性能。同时,等离子体处理流程简单,成本低、反应可控,适合工业大规模处理。所获得的等离子体增强化学气相沉积中空纤维膜还具有优异的力学性能及抗塑化稳定性,在实际气体分离应用中具有广阔的前景。

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