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公开(公告)号:CN110207928A
公开(公告)日:2019-09-06
申请号:CN201910407780.4
申请日:2019-05-15
Applicant: 中国科学院西安光学精密机械研究所 , 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所
Abstract: 本发明涉及一种采用非球面的高均匀高分辨纹影光学系统,解决现有纹影系统均匀性和分辨率不高的问题。该系统包括光源系统、密封前观察窗、准直主反射镜、纹影系统、纹影主反射镜、密封后观察窗和成像系统;纹影系统包括依次设置的密封前纹影镜筒、试验舱、密封后纹影镜筒;密封前观察窗设置在密封前纹影镜筒的侧面,密封后观察窗设置在密封后纹影镜筒的侧面;准直主反射镜和纹影主反射镜均采用非球面反射镜;成像系统为长焦成像系统;光源系统发出的光线穿过密封前观察窗入射到准直主反射镜,经过准直主反射镜后的光线经过密封前纹影镜筒进入试验舱入射到纹影主反射镜,纹影主反射镜将光线反射,通过密封后观察窗后入射到成像系统。
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公开(公告)号:CN210005208U
公开(公告)日:2020-01-31
申请号:CN201920703040.0
申请日:2019-05-15
Applicant: 中国科学院西安光学精密机械研究所 , 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所
Abstract: 本实用新型涉及一种采用非球面的高均匀高分辨纹影光学系统,解决现有纹影系统均匀性和分辨率不高的问题。该系统包括光源系统、密封前观察窗、准直主反射镜、纹影系统、纹影主反射镜、密封后观察窗和成像系统;纹影系统包括依次设置的密封前纹影镜筒、试验舱、密封后纹影镜筒;密封前观察窗设置在密封前纹影镜筒的侧面,密封后观察窗设置在密封后纹影镜筒的侧面;准直主反射镜和纹影主反射镜均采用非球面反射镜;成像系统为长焦成像系统;光源系统发出的光线穿过密封前观察窗入射到准直主反射镜,经过准直主反射镜后的光线经过密封前纹影镜筒进入试验舱入射到纹影主反射镜,纹影主反射镜将光线反射,通过密封后观察窗后入射到成像系统。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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