知搜-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

5 records (took 0.024 seconds)

    一种基于硅氧烷修饰光致发光物质的压力敏感涂料及其制备的涂层
    1.
    发明公开
    一种基于硅氧烷修饰光致发光物质的压力敏感涂料及其制备的涂层 有权

    公开(公告)号：CN113512356A

    公开(公告)日：2021-10-19

    申请号：CN202010281635.9

    申请日：2020-04-10

    Applicant: 中国科学院大学 ,  中国科学院力学研究所

    Inventor： 屈小中 ,  杨迪 ,  汪球 ,  栗继伟

    IPC: C09D183/08 ,  C09D5/22 ,  G01L1/24

    Abstract: 本发明涉及一种基于硅氧烷修饰光致发光物质的压力敏感涂料及其制备的涂层。所述压力敏感涂料包括带有甲氧基硅烷和/或乙氧基硅烷官能团的染料、任选地硅氧烷前驱体和溶剂。本发明的压力敏感涂料的涂布方式简单、可制备超薄涂层；涂层透明，适用于工作面/测试面周围空间狭小、光学成像或光学测量设备放置困难的使用环境，在配合使用透明基底或无基底的情况下，使用透明压力敏感涂层可扩大观察设备的摆放范围，方便实验装置的摆放；同时，化学键键合染料的方法能够提高涂层的光稳定性，延长涂层使用周期，甚至可提高涂层对压力的响应速度。本发明可较大的降低压力敏感涂料对模型形状、测试区域、光路布置等的限制，拓宽压力敏感涂料的应用范围。

    一种双探针光致发光氧浓度/压力和温度双敏感的涂料、涂层及其用途
    2.
    发明公开
    一种双探针光致发光氧浓度/压力和温度双敏感的涂料、涂层及其用途 审中-公开

    公开(公告)号：CN118048063A

    公开(公告)日：2024-05-17

    申请号：CN202410220635.6

    申请日：2024-02-28

    Applicant: 中国科学院大学

    Inventor： 屈小中 ,  栗继伟 ,  任盈颖

    IPC: C09D5/26 ,  C09D5/22 ,  G01N21/64

    Abstract: 本发明公开了一种双探针光致发光氧浓度/压力和温度双敏感的涂料、涂层及其用途。其组成包括高分子包载聚集诱导发光分子(AIE)的温度敏感光致发光微粒和氧浓度/压力敏感光致发光分子。所述氧浓度/压力敏感光致发光分子为钌金属配合物，本发明采用高分子包载聚集诱导发光分子(AIE)，通过高分子网络限制AIE分子的结晶行为，实现了其温度的可逆性测量；采用高分子包载聚集诱导发光分子(AIE)的微粒，其制备方法简单高效，粒径分布均匀且可以在一定范围内调节。氧浓度/压力和温度双敏感涂层通过采用透氧高分子基质，并加入填料获得了多孔结构以获得更快的响应速度。实验结果表明，由于填料的加入，涂层可获得微秒量级的响应速度。

    一种基于硅氧烷修饰光致发光物质的压力敏感涂料及其制备的涂层
    4.
    发明授权
    一种基于硅氧烷修饰光致发光物质的压力敏感涂料及其制备的涂层 有权

    公开(公告)号：CN113512356B

    公开(公告)日：2022-04-19

    申请号：CN202010281635.9

    申请日：2020-04-10

    Applicant: 中国科学院大学 ,  中国科学院力学研究所

    Inventor： 屈小中 ,  杨迪 ,  汪球 ,  栗继伟

    IPC: C09D183/08 ,  C09D5/22 ,  G01L1/24

    Abstract: 本发明涉及一种基于硅氧烷修饰光致发光物质的压力敏感涂料及其制备的涂层。所述压力敏感涂料包括带有甲氧基硅烷和/或乙氧基硅烷官能团的染料、任选地硅氧烷前驱体和溶剂。本发明的压力敏感涂料的涂布方式简单、可制备超薄涂层；涂层透明，适用于工作面/测试面周围空间狭小、光学成像或光学测量设备放置困难的使用环境，在配合使用透明基底或无基底的情况下，使用透明压力敏感涂层可扩大观察设备的摆放范围，方便实验装置的摆放；同时，化学键键合染料的方法能够提高涂层的光稳定性，延长涂层使用周期，甚至可提高涂层对压力的响应速度。本发明可较大的降低压力敏感涂料对模型形状、测试区域、光路布置等的限制，拓宽压力敏感涂料的应用范围。

Patent Agency Ranking