振动场下晶体生长装置和生长方法

    公开(公告)号:CN101407940B

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN200810040954.X

    申请日:2008-07-24

    Abstract: 本发明涉及振动场下晶体生长装置和生长方法,所述的生长装置包括炉体(1)、传动机构(2)、样品安瓿(3)、振动发生器(4)、支架(5)、传动杆(6)和导向杆(7),其中炉体(1)竖直放置,样品安瓿(3)垂直穿过炉体(1)在炉体(1)中沿垂直方向相对移动,样品安瓿(3)下端固定安装在振动发生器(4)上;传动机构(2)通过传动杆(6)与炉体(1)连接,并带动炉体(1)沿轴向上下移动。炉体(1)套穿安装在导向杆(7)上,沿导向杆(7)的轴向上下移动,传动机构(2)及导向杆(7)均安装在固定支架(5)上。本发明在晶体生长过程中引入了轴向的外加振动场,可以有效控制熔体中的对流,改变固液界面形状,通过探索最佳工艺参数,提高晶体品质和成品率。

    振动场下晶体生长装置和生长方法

    公开(公告)号:CN101407940A

    公开(公告)日:2009-04-15

    申请号:CN200810040954.X

    申请日:2008-07-24

    Abstract: 本发明涉及振动场下晶体生长装置和生长方法,所述的生长装置包括炉体(1)、传动机构(2)、样品安瓿(3)、振动发生器(4)、支架(5)、传动杆(6)和导向杆(7),其中炉体(1)竖直放置,样品安瓿(3)垂直穿过炉体(1)在炉体(1)中沿垂直方向相对移动,样品安瓿(3)下端固定安装在振动发生器(4)上;传动机构(2)通过传动杆(6)与炉体(1)连接,并带动炉体(1)沿轴向上下移动。炉体(1)套穿安装在导向杆(7)上,沿导向杆(7)的轴向上下移动,传动机构(2)及导向杆(7)均安装在固定支架(5)上。本发明在晶体生长过程中引入了轴向的外加振动场,可以有效控制熔体中的对流,改变固液界面形状,通过探索最佳工艺参数,提高晶体品质和成品率。

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