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发明公开
一种超景深衍射光学元件设计方法审中-实审

公开(公告)号：CN117850031A

公开(公告)日：2024-04-09

申请号：CN202410086643.6

申请日：2024-01-22

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 魏朝阳 , 潘奕彤 , 牛振岐 , 陆宇颖 , 万嵩林

IPC: G02B27/00 , G02B27/42 , G02B5/18

Abstract: 一种超景深衍射光学元件设计方法，包括以下步骤：S1、基于物理光学及傅里叶光学理论，建立高光谱成像系统的光场函数，用于指导超景深衍射光学元件设计；S2、针对衍射光学元件DOE，基于选择的基础面形及可优化参数，结合人工智能神经网络设计超景深功能；S3、设计适用于超景深衍射光学元件‑高光谱重建网络端到端协同优化设计的神经网络，实现高光谱成像。该方法能实现具备超景深功能的衍射光学元件设计，所设计元件可应用至高光谱成像系统，实现超景深高光谱成像。

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