公开(公告)号：CN115157835A

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN202210645506.2

申请日：2022-06-08

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 谢少明 ,  朱凯宸 ,  廖洋 ,  杜鹃 ,  叶铖润 ,  刘科 ,  高文海 ,  李飞 ,  彭宇杰 ,  冷雨欣

IPC: B41C1/05

Abstract: 本发明公开了一种基于光致漂白的激光标刻隐形图案的方法，本发明利用激光与荧光染料之间的光致漂白效应，可以在不造成烧蚀破坏的前提下在含有荧光染料的材料表面标刻出精密的隐形图案，这些图案在日光环境下利用肉眼和显微镜观察时均不可见，但是在检测光源照射下可以被清晰地观察到，并且长时间存放后在检测光源照射下图案仍清晰可见。本发明的激光标刻隐形图案的方法不会烧蚀破坏材料表面，隐秘性强，并且标刻精度高、加工方法简便、无污染、成本低廉，十分适用于防伪和加密传输领域。