公开(公告)号：CN101701352A

公开(公告)日：2010-05-05

申请号：CN200810183181.0

申请日：2008-12-15

Applicant: 中国矿业大学(北京)

Inventor： 梁汉东 ,  李文攀 ,  盛守祥 ,  许世波

IPC: C25F3/08 ,  C25F7/00 ,  H01J9/02 ,  B82B3/00 ,  G12B21/04 ,  G01N13/12

Abstract: 本发明公开了一种高分辨率发射极钨针尖的制备方法及其装置，涉及一种高分辨率二次离子质谱(SIMS)的液态金属离子源。提供一种较为简单，重复率高，可快速、安全地制备发射极钨针尖的方法。设有交流电压信号发生电路、腐蚀电流监控电路、腐蚀电压监控电路、自动腐蚀控制系统、螺旋微细调节器、腐蚀电解池和恒温控制系统。制作前将腐蚀液置于冷却器内进行低温冷却，至一定温度时取出，将其水平固定于恒温控制器中，调节恒温控制系统，恒温保持腐蚀液温度。取洁净钨丝经氢焰退火后，一端固定在螺旋微调装置上，作为一级，另一级为置于NaOH腐蚀溶液中的金属圆环电极：金属圆环电极水平放置于腐蚀电解池底中下部；钨丝取金属圆环电极中心点垂直插入腐蚀溶液中；将钨丝插入腐蚀溶液中并保持插入深度；监视腐蚀电流至腐蚀电流达到阈值；继续脉冲腐蚀，对针尖进行粗化处理，控制针尖长宽比。