卤氧化铋多孔薄膜及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116282146A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202211102792.4

    申请日:2022-09-09

    Abstract: 本发明提供一种卤氧化铋多孔薄膜及其制备方法和应用,所述制备方法包括:将含有铋元素和卤素的薄膜生长液与触发气体接触进行气液相界面反应,在所述薄膜生长液的表面生长成所述卤氧化铋多孔薄膜。本发明可提高卤氧化铋多孔薄膜的厚度均匀性等性能,可用于大面积均匀卤氧化铋多孔薄膜的制备,且具有制备工艺简单、低成本、形貌及厚度可调控等优点。

    一种光催化组件及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118162175A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202410176804.0

    申请日:2024-02-08

    Abstract: 本发明提供一种光催化组件及其制备方法和应用,该光催化组件包括层叠设置的光催化层、柔性基质;所述柔性基质选自聚乙烯类化合物、聚丙烯类化合物、聚氯乙烯类化合物、聚酯类化合物、金属箔、橡胶类化合物、乙烯‑乙烯醇共聚物、乙烯‑乙酸乙烯脂共聚物、聚乙烯亚胺、聚丙烯腈、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚乙烯醇、氯化聚乙烯、氯磺聚乙烯、聚氨酯、聚酰亚胺、聚二甲基硅氧烷、聚醚醚酮,聚四氟乙烯、有机硅化合物中的至少一种。本发明提供的光催化组件质量轻,可收纳性强,且具有在受压、折叠等变形情况下仍可保持原有光催化性能的特点。

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