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公开(公告)号：CN106442303B
公开(公告)日：2019-08-30
申请号：CN201610828976.7
申请日：2016-09-18
Applicant: 中国电器科学研究院股份有限公司
IPC: G01N17/02
Abstract: 本发明公开了一种电子电器服役环境腐蚀性的测量方法，其通过在受测量电子电器服役环境中放置铜测试片，并通过阴极还原法还原铜测试片表面的腐蚀产物膜，再计算出Cu2O腐蚀产物平均厚度CuO腐蚀产物平均厚度TCuO和Cu2S腐蚀产物平均厚度最后通过计算出作为最终测量结果的表面腐蚀产物膜总厚度平均值来查询获得受测量电子电器服役环境的腐蚀性，因此，本发明能够在不影响电子电器服役环境的情况下，对电子电器服役环境的微弱腐蚀性进行准确的测量，避免了现有技术中因采用铜挂片失重法求算腐蚀速率而造成测量精度低的问题。
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