一种辐照考验回路在役清洗系统和清洗方法

    公开(公告)号:CN119016449A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202411234423.X

    申请日:2024-09-04

    Abstract: 本申请提供了一种辐照考验回路在役清洗系统和清洗方法,所属辐照考验回路清洁技术领域,包括:第一清洗管线与辐照考验回路的输出端连接、过滤器与辐照考验回路的输入端连接,形成独立于辐照考验回路的清洗系统,清洗桶用于容纳清洗试剂,清洗泵用于对清洗试剂进行增压,进行循环清洗,通过增大液体波动加强湍流搅浑效果,加大对辐照考验回路避免沉积的辐射活化产物的冲刷力度,提升对滞留于管路及设备死角区域的杂质的导出效果,提高了清洗的效率和效率;过滤器对清洗试剂循环过程中冲刷下来的杂质进行过滤,避免杂质继续随清洗试剂参与循环,通过清理过滤器以处理清洗系统循环清洗所冲刷下来的杂质,保证辐照考验回路洁净,保证了清洗效果。

Patent Agency Ranking