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公开(公告)号：CN108911532B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201811152167.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C23/00
Abstract: 本申请提供一种工件表面损伤修复方法及系统，涉及光学元件加工技术领域。所述方法包括：将激光聚焦到待修复工件表面；将聚焦激光的光斑在待修复工件表面移动以扫描整个待修复工件表面，以使激光能量作用于待修复工件表面使待修复工件表面产生热效应，以熔合待修复工件表面的微裂纹损伤层，生成微裂纹熔合层；向待修复工件表面输出等离子体射流；控制等离子体射流在待修复工件表面运动，以去微裂纹熔合层。本申请利用微裂纹的熔合来改善所述待修复工件表面的裂纹深度、分布等初始状态，再利用等离子体射流对熔合改善后的微裂纹熔合层进行快速去除，提高了工件的寿命，也提高了工件的可靠性和使用性能。
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公开(公告)号：CN109128510B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201811053084.X
申请日：2018-09-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/352 , B23K26/402 , G02B1/118
Abstract: 本发明提供的光学元件制备方法和太赫兹波段光学元件，涉及光学元件加工技术领域。其中，光学元件制备方法包括：提供一石英晶体，作为所述太赫兹波段光学元件的本体结构；通过激光器输出一二氧化碳激光，并通过光学组件对该二氧化碳激光进行调节处理；通过扫描振镜控制经过调节处理后的二氧化碳激光按照预设的扫描路径作用于所述石英晶体的待处理面，以在该待处理面上沿所述扫描路径依次制作形成多个凹坑结构，以得到包括本体结构和凹坑结构的太赫兹波段光学元件。通过上述方法，可以有效地在石英晶体上制作凹坑结构，以降低石英晶体表面的反射率、提高制备的太赫兹波段光学元件的透射率。
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公开(公告)号：CN106094487B
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201610688376.5
申请日：2016-08-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种基于多个记录距离的太赫兹同轴全息成像系统及成像方法，具体涉及一种基于多个记录距离的迭代再现方法，属于太赫兹成像技术领域，其目的在于解决去除太赫兹同轴数字全息成像共轭像以及零级像干扰的问题。成像包括两个过程：一是全息图记录，在光轴方向平移探测器实现多个记录距离的全息图和照明光采集；二是复振幅再现，依次在各个记录面之间对全息图和照明光分别进行复振幅衍射传播，每个记录面的记录值作为约束条件对复振幅进行更新，通过多次往返迭代恢复全息图和照明光的相位信息，并最终获得去除共轭像和零级像干扰的高保真度物面复振幅分布。
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公开(公告)号：CN109262134A
公开(公告)日：2019-01-25
申请号：CN201811044678.4
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的光学元件制备方法和激光干燥处理系统，涉及激光技术领域。其中，所述光学元件制备方法包括：制备溶胶-凝胶；提供一熔石英基底，并通过所述溶胶-凝胶在所述熔石英基底的一表面制作形成一光学膜层；通过激光对所述光学膜层进行干燥处理，以得到包括熔石英基底和光学膜层的熔石英光学元件。通过上述方法，可以进一步提升现有的熔石英光学元件的透光率。
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公开(公告)号：CN108911532A
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201811152167.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C23/00
Abstract: 本申请提供一种工件表面损伤修复方法及系统，涉及光学元件加工技术领域。所述方法包括：将激光聚焦到待修复工件表面；将聚焦激光的光斑在待修复工件表面移动以扫描整个待修复工件表面，以使激光能量作用于待修复工件表面使待修复工件表面产生热效应，以熔合待修复工件表面的微裂纹损伤层，生成微裂纹熔合层；向待修复工件表面输出等离子体射流；控制等离子体射流在待修复工件表面运动，以去微裂纹熔合层。本申请利用微裂纹的熔合来改善所述待修复工件表面的裂纹深度、分布等初始状态，再利用等离子体射流对熔合改善后的微裂纹熔合层进行快速去除，提高了工件的寿命，也提高了工件的可靠性和使用性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107024848A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710283359.8
申请日：2017-04-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: G03H1/0443 , G02B21/0024 , G02B21/0036 , G03H1/08 , G03H2222/10
Abstract: 本发明公开了一种基于逐点扫描的太赫兹透射式全息成像系统及成像方法，属于成像方法与成像系统技术领域，其目的在于解决传统连续太赫兹波共焦扫描成像中相位信息缺失的问题。首先在共焦扫描系统中引入参考光；然后在样品逐点扫描成像过程中，通过移动第二平面反射镜改变光程的方式动态改变参考光波相位，等效于合成一束平面参考光；利用太赫兹单点探测器记录相干强度，从而得到像面全息图；最后利用传统离轴像面全息再现算法得到物体振幅和相位再现像。
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公开(公告)号：CN106526723A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201611192226.1
申请日：2016-12-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B5/00
CPC classification number: G02B5/00
Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限太赫兹聚焦器件，属于太赫兹成像技术领域中的太赫兹聚焦器件，其目的在于提供一种可对生物组织等样品成像达到亚波长水平的空间分辨率的超衍射极限太赫兹聚焦器件。其包括上层图形化金属层和下层太赫兹高透材料衬底；所述上层图形化金属层包括可透过太赫兹辐射的圆环或可透过太赫兹辐射的圆盘。本发明适用于对生物组织等样品进行成像的太赫兹聚焦器件。
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公开(公告)号：CN109262134B
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN201811044678.4
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的光学元件制备方法和激光干燥处理系统，涉及激光技术领域。其中，所述光学元件制备方法包括：制备溶胶‑凝胶；提供一熔石英基底，并通过所述溶胶‑凝胶在所述熔石英基底的一表面制作形成一光学膜层；通过激光对所述光学膜层进行干燥处理，以得到包括熔石英基底和光学膜层的熔石英光学元件。通过上述方法，可以进一步提升现有的熔石英光学元件的透光率。
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公开(公告)号：CN107024848B
公开(公告)日：2020-08-18
申请号：CN201710283359.8
申请日：2017-04-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种基于逐点扫描的太赫兹透射式全息成像系统及成像方法，属于成像方法与成像系统技术领域，其目的在于解决传统连续太赫兹波共焦扫描成像中相位信息缺失的问题。首先在共焦扫描系统中引入参考光；然后在样品逐点扫描成像过程中，通过移动第二平面反射镜改变光程的方式动态改变参考光波相位，等效于合成一束平面参考光；利用太赫兹单点探测器记录相干强度，从而得到像面全息图；最后利用传统离轴像面全息再现算法得到物体振幅和相位再现像。
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公开(公告)号：CN109079313B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201811045140.5
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00 , B23K26/352 , B23K26/70
Abstract: 本发明涉及激光抛光技术领域，具体涉及一种激光抛光设备及方法，设备包括：第一激光器，用于发出第一激光光束并通过扫描器投射至放置于加工平移台的待加工工件以形成加工区域；高温计，用于采集加工区域的温度数据；第二激光器，用于发出第二激光光束至探测焦点；探测器，用于探测探测焦点处在第二激光光束作用下产生的光信号；光谱仪，用于根据光信号获得光谱信息，控制装置用于根据光谱信息以及温度数据控制加工平移台的移动速度和扫描器在扫描方向的扫描速度。通过上述设置，以实现根据温度数据和光谱信号对扫描速度和平台的移动速度进行反馈控制，避免通过改变激光功率对激光光斑大小造成影响，进而造成加工稳定性差的问题。
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