基于计算全息的大口径滤波透镜PSD1频段表面误差测量方法

    公开(公告)号:CN119803859A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411960673.1

    申请日:2024-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种基于计算全息的大口径滤波透镜PSD1频段表面误差测量方法,属于光学测量技术领域。该方法包括以下步骤:设计并制作计算全息元件;构建大口径滤波透镜PSD1频段表面误差测量装置;将计算全息元件与大口径干涉仪对准;调整被测透镜;数据获取与处理,得到被测透镜的PSD1频段表面误差。本发明通过将计算全息元件与大口径干涉仪相结合,将大口径干涉仪输出的准直光束转换为球面波前,并通过计算全息元件将准直光束分为参考波前和测量波前,从而实现对被测透镜PSD1频段表面误差的高精度测量。该方法具有装置结构简单、成本低、易于工程实践应用等优势,测量精度可达1.4029nm RMS,满足高功率激光系统的需求,具有显著的应用价值。

    一种机器人全口径研磨抛光系统及方法

    公开(公告)号:CN114871858A

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN202210439951.3

    申请日:2022-04-25

    Abstract: 本发明提供了一种机器人全口径研磨抛光系统及方法,涉及光学加工技术领域,系统包括机器人、加压气缸、电机和工作转台,工作转台上设有研磨/抛光盘,被加工元件设在电机与研磨/抛光盘之间,系统还包括加工程序生成器,加工程序生成器包括面形预测器、工艺参数生成器和后处理器;方法包括S1:构建有序数据队列;S2:构建并训练面形预测模型;S3:设置条件,生成若干组工艺参数,进行面形预测,并筛选出最优工艺参数以及对应的预测面形;S4:获取最终的工艺参数,生成机器人控制程序进行加工。本发明实现了加工工艺参数的自动规划及元件加工,降低了成本,提高了加工质量的稳定性,有利于标准化批量生产。

    一种光学圆锥研磨抛光装置、方法

    公开(公告)号:CN112059812A

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN202010776279.8

    申请日:2020-08-05

    Abstract: 本发明属于光学器件加工领域,公开了一种光学圆锥研磨抛光装置、方法。装置包括支撑架、活动机构、顶针、平面抛光盘和抛光盘电机;活动机构安装于支撑架上,活动机构具备两个活动自由度:端部旋转的第一自由度,以及旋转中心与端部旋转轴相垂直的第二自由度;活动机构的端部用于连接待加工圆锥;顶针位于活动机构端部的旋转轴在第二自由度内活动的平面内;平面抛光盘与顶针万向连接,顶针与抛光盘电机轴连接,平面抛光盘表面设置有抛光材料层。将圆锥连接于活动机构轴端,并将圆锥轮廓线调至水平,以绕圆锥轴线成螺旋线的轨迹对其进行抛光,圆锥转速根据平面抛光盘承受的压力、平面抛光盘的移动速度、转速、摆动速度及幅度进行控制。

    一种机器人全口径研磨抛光系统及方法

    公开(公告)号:CN114871858B

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202210439951.3

    申请日:2022-04-25

    Abstract: 本发明提供了一种机器人全口径研磨抛光系统及方法,涉及光学加工技术领域,系统包括机器人、加压气缸、电机和工作转台,工作转台上设有研磨/抛光盘,被加工元件设在电机与研磨/抛光盘之间,系统还包括加工程序生成器,加工程序生成器包括面形预测器、工艺参数生成器和后处理器;方法包括S1:构建有序数据队列;S2:构建并训练面形预测模型;S3:设置条件,生成若干组工艺参数,进行面形预测,并筛选出最优工艺参数以及对应的预测面形;S4:获取最终的工艺参数,生成机器人控制程序进行加工。本发明实现了加工工艺参数的自动规划及元件加工,降低了成本,提高了加工质量的稳定性,有利于标准化批量生产。

    一种光学圆锥研磨抛光装置、方法

    公开(公告)号:CN112059812B

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202010776279.8

    申请日:2020-08-05

    Abstract: 本发明属于光学器件加工领域,公开了一种光学圆锥研磨抛光装置、方法。装置包括支撑架、活动机构、顶针、平面抛光盘和抛光盘电机;活动机构安装于支撑架上,活动机构具备两个活动自由度:端部旋转的第一自由度,以及旋转中心与端部旋转轴相垂直的第二自由度;活动机构的端部用于连接待加工圆锥;顶针位于活动机构端部的旋转轴在第二自由度内活动的平面内;平面抛光盘与顶针万向连接,顶针与抛光盘电机轴连接,平面抛光盘表面设置有抛光材料层。将圆锥连接于活动机构轴端,并将圆锥轮廓线调至水平,以绕圆锥轴线成螺旋线的轨迹对其进行抛光,圆锥转速根据平面抛光盘承受的压力、平面抛光盘的移动速度、转速、摆动速度及幅度进行控制。

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