公开(公告)号：CN119939347A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202510026940.6

申请日：2025-01-08

Applicant: 中国华录·松下电子信息有限公司

Inventor： 高浩天 ,  邹美莉 ,  李东 ,  邹余洋 ,  王文杰 ,  刘震

IPC: G06F18/241 ,  G06F18/27 ,  G06F30/17 ,  G06F30/20 ,  G06F111/06 ,  G06F111/08 ,  G06F119/18

Abstract: 本发明公开了一种对记录靶材的重要性能参数进行归类及优化的方法，首先基于Plackett‑Burman实验方法，获取多个所述影响因子中心膜厚的组合，以获取基于所述影响因子中心膜厚的组合的光盘的光学介质层的重要性能参数；进而确定所述重要性能参数与影响因子之间的关系是否显著，进而基于重要性能参数筛选规则，获取强相关的重要性能参数组合中，包含重要性能参数相同的重要性能参数组合，进而获取筛选后的影响因子组合，并基于OD函数，依次经过最陡爬坡实验、CCD实验对OD函数进行寻优，确定影响因子的最终取值。本发明能够为后续靶材国产化的制造工艺调整提供指导意见，进而后续操作人员调试重要性能参数时目的性更强，保证了光盘生产质量，加快了生产节拍。