公开(公告)号：CN112025417B

公开(公告)日：2022-05-03

申请号：CN202010841748.X

申请日：2020-08-20

Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院

Inventor： 李晓静 ,  张祺 ,  高永亮 ,  聂景江 ,  乌仁娜

IPC: B24B1/00 ,  B24B13/00 ,  B24B9/00 ,  B24B49/12

Abstract: 本发明公开了一种光学金刚石材料表面非接触式离子束抛光方法，其特征在于包括有以下步骤：(1)采用微波等离子化学气相沉积方法，制备获得光学级的金刚石材料样品；(2)在超净室完成样品夹装；(3)开启离子源，待离子源稳定；(4)对金刚石材料样品表面一层进行抛光得到洁净表面；(5)采用高能宽束离子束进行大面积均匀刻蚀抛光，采用束压为1200～1500V，离子束直径为20～50mm；(6)采用低能窄束离子束进行微区域精密抛光，采用束压为600～800V，离子束直径为2～15mm；(7)抛光后取出样品，得到具有纳米级光滑表面的金刚石材料。与现有技术相比，本发明的方法能够得到纳米级光滑表面。

公开(公告)号：CN112025417A

公开(公告)日：2020-12-04

申请号：CN202010841748.X

申请日：2020-08-20

Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院

Inventor： 李晓静 ,  张祺 ,  高永亮 ,  聂景江 ,  乌仁娜

IPC: B24B1/00 ,  B24B13/00 ,  B24B9/00 ,  B24B49/12

Abstract: 本发明公开了一种光学金刚石材料表面非接触式离子束抛光方法，其特征在于包括有以下步骤：(1)采用微波等离子化学气相沉积方法，制备获得光学级的金刚石材料样品；(2)在超净室完成样品夹装；(3)开启离子源，待离子源稳定；(4)对金刚石材料样品表面一层进行抛光得到洁净表面；(5)采用高能宽束离子束进行大面积均匀刻蚀抛光，采用束压为1200～1500V，离子束直径为20～50mm；(6)采用低能窄束离子束进行微区域精密抛光，采用束压为600～800V，离子束直径为2～15mm；(7)抛光后取出样品，得到具有纳米级光滑表面的金刚石材料。与现有技术相比，本发明的方法能够得到纳米级光滑表面。