一种组织均匀金锡共晶合金箔片的制备方法

    公开(公告)号:CN103938013B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201410085656.8

    申请日:2014-03-10

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 一种组织均匀金锡共晶合金箔片的制备方法,包括下述步骤:精确配制锡质量百分数为20%,金质量百分数为80%的金锡合金原料;在非自耗电弧熔炼炉中,真空度达10-3Pa下,重复熔炼、电磁搅拌、冷却至少3次;得到金锡合金铸锭;铸锭均匀化退火后,进行多道次热压缩,得到金锡共晶箔片;本发明采用真空电弧熔炼、循环电磁搅拌、循环热压缩,制备共晶点成分无初生相的全片层共晶组织,相比于现有技术,本发明达到了完全合金化,强度更高,焊接性能更好,未添加其他组元或调整金锡成分比例,焊接温度及性能更稳定,焊片变形受力更为均匀,不易出现焊片开裂状况,成品率高,且生产效率大大高于电镀法制备金锡焊片,生产成本降低,适用于批量生产。

    一种Ni-P基板的封装方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104282582A

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201410474489.6

    申请日:2014-09-17

    Applicant: 中南大学

    CPC classification number: H01L24/27 H01L24/29 H01L2224/27 H01L2924/0132

    Abstract: 本发明涉及一种Ni-P基板的封装方法;属于电子封装技术领域。本发明将5-20wt%的纳米镍粉与80-95wt%的助焊剂混合均匀后,涂覆或印刷于Ni-P基板上,然后再涂覆或印刷锡基焊料,得到待焊基板,然后将待焊基板置于磁场强度梯度为3-5×104G/m,且基板处磁感应强度为1000-2000G范围的静磁场中(磁场源在Ni-P板内侧),进行回流焊接。本发明大大降低了焊点在服役过程中Ni-P的消耗速率,同时抑制了金属间化合物的长大,同时还避免了界面金属间化合物的分层或者剥离情况的出现。本发明焊点可靠性更好,且成本低,生产效率高,技术稳定性优良,适用于大规模工业应用。

    一种组织均匀金锡共晶合金箔片的制备方法

    公开(公告)号:CN103938013A

    公开(公告)日:2014-07-23

    申请号:CN201410085656.8

    申请日:2014-03-10

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 一种组织均匀金锡共晶合金箔片的制备方法,包括下述步骤:精确配制锡质量百分数为20%,金质量百分数为80%的金锡合金原料;在非自耗电弧熔炼炉中,真空度达10-3Pa下,重复熔炼、电磁搅拌、冷却至少3次;得到金锡合金铸锭;铸锭均匀化退火后,进行多道次热压缩,得到金锡共晶箔片;本发明采用真空电弧熔炼、循环电磁搅拌、循环热压缩,制备共晶点成分无初生相的全片层共晶组织,相比于现有技术,本发明达到了完全合金化,强度更高,焊接性能更好,未添加其他组元或调整金锡成分比例,焊接温度及性能更稳定,焊片变形受力更为均匀,不易出现焊片开裂状况,成品率高,且生产效率大大高于电镀法制备金锡焊片,生产成本降低,适用于批量生产。

    一种Ni-P基板的封装方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104282582B

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201410474489.6

    申请日:2014-09-17

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明涉及一种Ni-P基板的封装方法;属于电子封装技术领域。本发明将5-20wt%的纳米镍粉与80-95wt%的助焊剂混合均匀后,涂覆或印刷于Ni-P基板上,然后再涂覆或印刷锡基焊料,得到待焊基板,然后将待焊基板置于磁场强度梯度为3-5×104G/m,且基板处磁感应强度为1000-2000G范围的静磁场中(磁场源在Ni-P板内侧),进行回流焊接。本发明大大降低了焊点在服役过程中Ni-P的消耗速率,同时抑制了金属间化合物的长大,同时还避免了界面金属间化合物的分层或者剥离情况的出现。本发明焊点可靠性更好,且成本低,生产效率高,技术稳定性优良,适用于大规模工业应用。

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