公开(公告)号：CN101172608A

公开(公告)日：2008-05-07

申请号：CN200610032493.2

申请日：2006-10-31

Applicant: 中南大学

Inventor： 宋晓岚 ,  江楠 ,  邱冠周 ,  李宇焜 ,  杨华明 ,  金胜明 ,  徐大余

IPC: C01B33/113 ,  C01B33/142

Abstract: 一种高比表面积纳米SiO2的制备方法，采用工业硅酸钠为原料，配制成浓度为0.1～0.8mol/L的硅酸钠溶液，加入3％～20％的十六烷基三甲基溴化氨，缓慢滴加浓度为0.5～1.5mol/L酸化剂溶液，直至pH值为4～10，匀速搅拌，10～80℃下反应10～60min，生成前驱体沉淀；抽滤，去离子水洗涤，干燥，将所得产物300～1000℃条件下焙烧0.5～5h，得到纳米SiO2成品。本发明所制得的SiO2颗粒比表面积达700～1200m2/g，且工艺简单易行、成本低廉。

公开(公告)号：CN101172608B

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200610032493.2

申请日：2006-10-31

Applicant: 中南大学

Inventor： 宋晓岚 ,  江楠 ,  邱冠周 ,  李宇焜 ,  杨华明 ,  金胜明 ,  徐大余

IPC: C01B33/113 ,  C01B33/142

Abstract: 一种高比表面积纳米SiO2的制备方法，采用工业硅酸钠为原料，配制成浓度为0.1～0.8mol/L的硅酸钠溶液，加入3％～20％的十六烷基三甲基溴化氨，缓慢滴加浓度为0.5～1.5mol/L酸化剂溶液，直至pH值为4～10，匀速搅拌，10～80℃下反应10～60min，生成前驱体沉淀；抽滤，去离子水洗涤，干燥，将所得产物300～1000℃条件下焙烧0.5～5h，得到纳米SiO2成品。本发明所制得的SiO2颗粒比表面积达700～1200m2/g，且工艺简单易行、成本低廉。