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公开(公告)号：CN117568798A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311632890.3
申请日：2023-12-01
Applicant: 中南大学
Abstract: 本发明属于铜合金基体表面激光熔覆技术领域，具体涉及一种铜合金基体激光熔覆材料、高导耐磨涂层和制备方法，由如下重量百分含量组分组成，Cu 48~67%，Cr 28~47%，Al2O3 3~7%；本发明能具有良好耐磨性能的同时保持较好的导电性能。
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公开(公告)号：CN114606493A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202111401799.1
申请日：2021-11-19
Applicant: 中南大学
Abstract: 本发明涉及一种铌合金用含NbB2/Nb3B2复合扩散障的Mo‑W‑ZrB2‑YSZ‑Si超高温抗氧化涂层及其制备方法，属于高温抗氧化涂层领域。该涂层主要包括NbB2/Nb3B2复合扩散障和Mo‑W‑ZrB2‑YSZ‑Si硅化物涂层主体。本发明采用新型三步法制备，即卤化物活化包埋法制备NbB2/Nb3B2复合扩散障，料浆浸涂和高温真空烧结法在扩散障表面继续制备Mo‑W‑ZrB2‑YSZ‑Si涂层胚体，最后采用高温硅化法制得Mo‑W‑ZrB2‑YSZ‑Si涂层。本发明涂层结构组分设计合理，制备工艺简单可控，所得产品性能优良，便于大规模工业化应用。
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公开(公告)号：CN113649573A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202110834056.7
申请日：2021-07-23
Applicant: 中南大学
Abstract: 本发明涉及一种降低铍材残余应力的方法，属于粉末冶金材料加工领域。本发明通过对铍材采用拉应力时效处理和N级变温冷热循环稳定处理，实现铍材残余应力的下降，所述N大于等于2，所述冷热循环稳定处理时，冷却的温度低于1℃，加热处理的温度大于等于100℃且小于铍材的熔点，相邻两次冷处理的温度不同，和/或相邻两次热处理的温度不同。本发明操作简便，成本较低，工艺简单，应用本发明优化技术得到的铍材残余应力下降至‑50～50MPa、室温放置一年尺寸变化小于0.002％。
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公开(公告)号：CN117364077A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202311632889.0
申请日：2023-12-01
Applicant: 中南大学
Abstract: 本发明属于铜合金基体表面激光熔覆技术技术领域，具体涉及一种铜基激光熔覆材料、粉体、涂层和制备方法，铜基激光熔覆材料由如下重量百分含量组分组成，Cu 48~67%，Cr 28~47%，TiO2 3~7%和CeO2 0.4‑0.8%；本发明能同时具有较好的硬度、耐磨性能和导电性。
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公开(公告)号：CN114107888B
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202111376119.5
申请日：2021-11-19
Applicant: 中南大学
Abstract: 本发明一种含有TaB扩散障层的新型Si‑Mo‑ZrB2复合涂层及其制备方法；属于超高温抗氧化涂层制备技术领域。本发明以钽及钽合金为基体，首先采用渗硼法在其表面制备硼化物扩散障层，随后在预制硼化物层坯体表面采用料浆喷涂烧结法制备Si‑Mo‑ZrB2复合涂层；最后采用卤化物包埋渗硅法提高涂层硅化物主体相含量。本发明通过三步法合理调控制备工艺，优化涂层成分，成功在基体与涂层主体之间预制了TaB扩散障层，有效阻止了涂层主体相的硅元素向基体扩散消耗，有效提高钽及钽合金超高温抗氧化性能，本发明制备工艺简单、生产成本低，所得涂层致密均匀，可在1700℃及以上的高温有氧环境下长时间稳定服役。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113649574A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202110933795.1
申请日：2021-08-15
Applicant: 中南大学
Abstract: 一种提高精密仪器仪表用高纯铍材尺寸稳定性的方法，对等静压高纯铍材进行多级时效处理，包括：将等静压高纯铍材加热至100～200℃，保温60～180min，然后使等静压高纯铍材随炉冷却至室温；加热至300～400℃，保温10～30min；再加热至700～900℃，保温30～300min；然后随炉冷却至300～400℃，保温10～30min，最后使等静压高纯铍材随炉冷却至室温；多级时效处理过程中对等静压高纯铍材施加波长0.05～0.20nm，管电压20～50kV，管电流1～10mA的X射线辐照。本发明可得到空位与位错缺陷少、杂质元素与杂质相稳定、残余应力小、尺寸稳定性极高的高纯铍材。
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公开(公告)号：CN116240546A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202310255754.0
申请日：2023-03-16
Applicant: 中南大学
Abstract: 本发明属于难熔金属钽基体表面高温抗氧化涂层制备技术领域，具体是涉及一种钽基表面涂层、制备方法和高温抗氧化材料，钽基表面涂层包括依次设置在钽基表面的硅化钽层和硅化钨层，本发明有效提高其高温抗氧化性能和使用寿命。
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公开(公告)号：CN113649573B
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202110834056.7
申请日：2021-07-23
Applicant: 中南大学
Abstract: 本发明涉及一种降低铍材残余应力的方法，属于粉末冶金材料加工领域。本发明通过对铍材采用拉应力时效处理和N级变温冷热循环稳定处理，实现铍材残余应力的下降，所述N大于等于2，所述冷热循环稳定处理时，冷却的温度低于1℃，加热处理的温度大于等于100℃且小于铍材的熔点，相邻两次冷处理的温度不同，和/或相邻两次热处理的温度不同。本发明操作简便，成本较低，工艺简单，应用本发明优化技术得到的铍材残余应力下降至‑50～50MPa、室温放置一年尺寸变化小于0.002％。
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公开(公告)号：CN113649574B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202110933795.1
申请日：2021-08-15
Applicant: 中南大学
Abstract: 一种提高精密仪器仪表用高纯铍材尺寸稳定性的方法，对等静压高纯铍材进行多级时效处理，包括：将等静压高纯铍材加热至100～200℃，保温60～180min，然后使等静压高纯铍材随炉冷却至室温；加热至300～400℃，保温10～30min；再加热至700～900℃，保温30～300min；然后随炉冷却至300～400℃，保温10～30min，最后使等静压高纯铍材随炉冷却至室温；多级时效处理过程中对等静压高纯铍材施加波长0.05～0.20nm，管电压20～50kV，管电流1～10mA的X射线辐照。本发明可得到空位与位错缺陷少、杂质元素与杂质相稳定、残余应力小、尺寸稳定性极高的高纯铍材。
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