钨酸铋薄膜的制备方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104561979B

    公开(公告)日:2017-11-14

    申请号:CN201410834880.2

    申请日:2014-12-29

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明公开了一种钨酸铋薄膜的制备方法,包括以下步骤:将基底置于反应液中发生水热反应在所述基底的表面形成钨酸铋薄膜,其中所述基底为钨板或表面形成有钨层的基板,所述反应液为含铋离子的酸性溶液。该制备方法,工艺简单,易于操作,成本低,环境友好,制备的钨酸铋薄膜均匀,附着性好,具有良好的可见光响应和高光电性能等优点。

    钨酸铋薄膜的制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104561979A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201410834880.2

    申请日:2014-12-29

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明公开了一种钨酸铋薄膜的制备方法,包括以下步骤:将基底置于反应液中发生水热反应在所述基底的表面形成钨酸铋薄膜,其中所述基底为钨板或表面形成有钨层的基板,所述反应液为含铋离子的酸性溶液。该制备方法,工艺简单,易于操作,成本低,环境友好,制备的钨酸铋薄膜均匀,附着性好,具有良好的可见光响应和高光电性能等优点。

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