一种悬臂梁式一维MEMS压电矢量水听器

    公开(公告)号:CN117191182A

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202311469449.8

    申请日:2023-11-07

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明属于半导体器件技术领域,尤其涉及悬臂梁式一维MEMS压电矢量水听器,其包括衬底和悬臂梁结构,衬底为矩形框体,衬底的下表面固定连接有支撑层,悬臂梁结构连接至衬底上相对的两根侧壁之间,悬臂梁结构包括中心质量块和两根结构相同的条形悬臂,两根条形悬臂对称布置于中心质量块的左右两端,且条形悬臂的其中一端设为弧腰梯形连接部,弧腰梯形连接部的较短底用于固定连接中心质量块;条形悬臂从上至下包括依次叠摞且相连的第二电极层、压电材料层和第一电极层。该悬臂梁式一维MEMS压电矢量水听器只需要探测某一方向的声源信号即可,在探测的同时会抑制掉其他方向的干扰信息,提高信号的信噪比,能准确提取出需要的信号。

    一种应力释放结构的压电水听器单元

    公开(公告)号:CN117213616B

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311481470.X

    申请日:2023-11-09

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明属于半导体器件技术领域,具体为一种应力释放结构的压电水听器单元,其包括SOI晶圆基底以及下电极薄膜、压电层和上电极薄膜,SOI晶圆基底包括衬底层、埋氧层和器件层,衬底层刻蚀有圆柱形背腔,下电极薄膜、压电层和上电极薄膜均刻蚀为圆形结构,圆形结构的侧壁上沿上下方向刻蚀有四个扇环体凹槽,扇环体凹槽从压电层上表面向下刻蚀至埋氧层上表面,四个扇环体凹槽沿圆形结构的周向均布。设置扇环体凹槽可将夹紧型边界条件变为简单支撑型边界条件,压电层的振型状态从类似高斯型变为类似活塞型,三明治结构的薄膜振动幅值增大,应力释放结构可释放薄膜结构层上的应力,提高水听器的综合性能。

    一种悬臂梁式一维MEMS压电矢量水听器

    公开(公告)号:CN117191182B

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202311469449.8

    申请日:2023-11-07

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明属于半导体器件技术领域,尤其涉及悬臂梁式一维MEMS压电矢量水听器,其包括衬底和悬臂梁结构,衬底为矩形框体,衬底的下表面固定连接有支撑层,悬臂梁结构连接至衬底上相对的两根侧壁之间,悬臂梁结构包括中心质量块和两根结构相同的条形悬臂,两根条形悬臂对称布置于中心质量块的左右两端,且条形悬臂的其中一端设为弧腰梯形连接部,弧腰梯形连接部的较短底用于固定连接中心质量块;条形悬臂从上至下包括依次叠摞且相连的第二电极层、压电材料层和第一电极层。该悬臂梁式一维MEMS压电矢量水听器只需要探测某一方向的声源信号即可,在探测的同时会抑制掉其他方向的干扰信息,提高信号的信噪比,能准确提取出需要的信号。

    一种应力释放结构的压电水听器单元

    公开(公告)号:CN117213616A

    公开(公告)日:2023-12-12

    申请号:CN202311481470.X

    申请日:2023-11-09

    Applicant: 中北大学

    Abstract: 本发明属于半导体器件技术领域,具体为一种应力释放结构的压电水听器单元,其包括SOI晶圆基底以及下电极薄膜、压电层和上电极薄膜,SOI晶圆基底包括衬底层、埋氧层和器件层,衬底层刻蚀有圆柱形背腔,下电极薄膜、压电层和上电极薄膜均刻蚀为圆形结构,圆形结构的侧壁上沿上下方向刻蚀有四个扇环体凹槽,扇环体凹槽从压电层上表面向下刻蚀至埋氧层上表面,四个扇环体凹槽沿圆形结构的周向均布。设置扇环体凹槽可将夹紧型边界条件变为简单支撑型边界条件,压电层的振型状态从类似高斯型变为类似活塞型,三明治结构的薄膜振动幅值增大,应力释放结构可释放薄膜结构层上的应力,提高水听器的综合性能。

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