公开(公告)号：CN1259162A

公开(公告)日：2000-07-05

申请号：CN98805787.5

申请日：1998-06-04

Applicant: 东陶机器株式会社

Inventor： 菅野充诚 ,  早川信 ,  柴户雅博 ,  山本政宏 ,  町田光义

IPC: C11D3/14 ,  C09D183/04 ,  C09D5/00 ,  C09K3/18

CPC classification number: C11D17/0013 ,  B05D5/00 ,  B05D5/04 ,  C03C17/3417 ,  C03C23/0075 ,  C03C2217/71 ,  C09D183/04 ,  C11D1/22 ,  C11D1/52 ,  C11D3/0063 ,  C11D3/042 ,  C11D3/044 ,  C11D3/06 ,  C11D3/1213 ,  C11D3/124 ,  C11D3/30 ,  C11D3/43 ,  C11D7/06 ,  C11D7/08 ,  C11D7/20 ,  C11D7/24 ,  C11D7/5027 ,  C11D11/0023

Abstract: 本发明公开了得到满意的光催化亲水性膜的方法,包括在形成光催化亲水性膜之前处理基材表面的方法,以及形成光催化亲水性膜的方法,及用于该方法中使用的清洗剂和底漆涂料组合物。该方法包括用指定的清洗剂清洗基材的表面,涂敷光催化亲水性涂料液,然后固化,或者用指定的清洗剂清洗基材的表面,在该基材表面涂敷指定的底漆涂料组合物,形成底涂层,在该底涂层上涂敷光催化亲水性涂料液,然后固化,形成光催化亲水性膜。作为清洗剂包括选自表面活性剂,研磨剂,酸,碱中的至少一种物质;作为形成底涂层的底漆涂料组合物,至少包括无机氧化物粒子、硅氧烷或硅氧烷前体和溶剂。