公开(公告)号：CN1975575A

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN200610140353.7

申请日：2006-11-27

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  金东敏 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于制造液晶显示元件的电路、半导体集成电路等微细电路的光刻胶组合物，具体地涉及一种包含(a)酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)流动性改善剂、(d)灵敏度增进剂、及(e)有机溶剂的感光性组合物。本发明所提出的光刻胶组合物通过使用流动性改善剂及灵敏度增进剂，防止了强真空干燥引起的图案变形，并提高了图案的均匀性，且具有感光速度、残膜率、显影对比度、分辨率、高分子树脂的溶解性、与基板的粘合性，及电路线宽均匀性均优异的特点。

公开(公告)号：CN1721989A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510080628.8

申请日：2005-07-04

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 姜勋 ,  李承昱 ,  全雨植 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  金柄郁

IPC: G03F7/022

CPC classification number: G03F7/0048 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/022

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明提供了包含以下物质的光致抗蚀剂组合物：a)酚醛清漆树脂、b)二叠氮化合物和c)包含丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)和2，2，4－三甲基－1，3－戊二醇单异丁基酯(TMPMB)的溶剂。本发明的光致抗蚀剂组合物在涂布后具有优异的涂布均匀性和污染抑制性能，使得它容易适用于实际工业场合，并且在大规模生产时，由于消耗量的降低和生产所需时间的缩短等，该光致抗蚀剂组合物可以改善作业环境。