公开(公告)号：CN105900188B

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201480071451.2

申请日：2014-12-29

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李炳昱 ,  李圣贤 ,  金京恩 ,  金明珍 ,  徐东敏 ,  金圣培

IPC: H01B13/00 ,  H01B5/14

Abstract: 本发明涉及通过表面处理的基于金属纳米线的透明导电膜的图案化方法，更详细地，涉及在图案化工序之前，还设置光学功能层来调节折射率，利用表面处理剂组合物使金属纳米线透明导电膜的表面发生氧化或生成盐化合物而使颜色发生变化，从而使表面绝缘，并将可视性优异的膜进行图案化的方法。

公开(公告)号：CN105900188A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201480071451.2

申请日：2014-12-29

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李炳昱 ,  李圣贤 ,  金京恩 ,  金明珍 ,  徐东敏 ,  金圣培

IPC: H01B13/00 ,  H01B5/14

Abstract: 本发明涉及通过表面处理的基于金属纳米线的透明导电膜的图案化方法，更详细地，涉及在图案化工序之前，还设置光学功能层来调节折射率，利用表面处理剂组合物使金属纳米线透明导电膜的表面发生氧化或生成盐化合物而使颜色发生变化，从而使表面绝缘，并将可视性优异的膜进行图案化的方法。