公开(公告)号：CN100478489C

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN02143935.4

申请日：2002-09-26

Applicant: 东赛璐株式会社

Inventor： 三品纪年 ,  野本晃 ,  冈健司 ,  外山达也

IPC: C23C14/08 ,  C23C16/40 ,  C08J7/06 ,  B32B9/00

CPC classification number: C23C14/081

Abstract: 本发明公开了一种氧化铝沉积薄膜，它包括一层基材薄膜和一层氧化铝沉积层，所述沉积层对于基材薄膜在湿润状态下的剥离强度至少为0.3牛/15毫米，其氧气渗透率不超过40毫升/米2·天·兆帕以及水蒸汽渗透率不超过4.0克/米2·天。氧化铝沉积薄膜(1)的荧光X射线强度(A)(铝Kα射线)与没有通入氧气得到的铝沉积薄膜(2)的荧光X射线强度(B)(铝Kα射线)之比(A/B)为(A/B)≤0.85。

公开(公告)号：CN1408896A

公开(公告)日：2003-04-09

申请号：CN02143935.4

申请日：2002-09-26

Applicant: 东赛璐株式会社

Inventor： 三品纪年 ,  野本晃 ,  冈健司 ,  外山达也

IPC: C23C14/08 ,  C23C16/40

CPC classification number: C23C14/081

Abstract: 本发明公开了一种氧化铝沉积薄膜，它包括一层基材薄膜和一层氧化铝沉积层，所述沉积层对于基材薄膜在湿润状态下的剥离强度至少为0.3牛/15毫米，其氧气渗透率不超过40毫升/米2·天·兆帕以及水蒸汽渗透率不超过4.0克/米2·天。氧化铝沉积薄膜(1)的荧光X射线强度(A)(铝Kα射线)与没有通入氧气得到的铝沉积薄膜(2)的荧光X射线强度(B)(铝Kα射线)之比(A/B)为(A/B)≤0.85。