耦合剂涂覆装置
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219021259U

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202223154986.7

    申请日:2022-11-25

    Abstract: 本实用新型公开了一种耦合剂涂覆装置,包括彩超探头,所述彩超探头的一端设有电源线,还包括设置在彩超探头上用于对耦合剂进行定量定点出料的出料机构,所述出料机构包括出料板,所述出料板远离电源线的一端开设有出料槽,所述出料槽底壁上开设有多个出料口,所述出料板上设有出料管,所述出料管与各个出料口相通设置。本实用新型通过出料机构的设置,在控制机构的控制作用下,实现了对耦合剂的定点定量控制,既满足了彩超检查的需要,又避免了耦合剂的浪费,同时,也避免了耦合剂涂抹面积过大,导致患者身体上一些不需要检查的部位也涂抹上了耦合剂,增大了患者检查后的擦拭难度。

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