公开(公告)号：CN101542606A

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200880000030.5

申请日：2008-03-24

Applicant: 东洋钢钣株式会社

Inventor： 内山义夫 ,  土井博史 ,  石田元

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73 ,  B24B9/00

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B9/065 ,  B24B37/048 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C2204/08 ,  G11B5/7315

Abstract: 本发明公开了一种能免去化学强化处理，将化学研磨中的研磨深度降至非常小的程度，来得到具有足够的圆环强度的信息记录磁盘用玻璃基板。其技术方案的要点是，通过对圆环状磁盘用玻璃基板的内周部端面进行机械研磨，使其表面粗糙度以Rmax表示为9nm以下，随后对该内周部端面进行化学研磨，将其表层研磨除去2μm以上。由于通过机械研磨，对内周部端面的表面粗糙度进行了以往没有的镜面加工，因此即使将化学研磨的研磨深度比以往减小，也能得到足够的圆环强度。研磨深度不到5μm即足够。

公开(公告)号：CN101542606B

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：CN200880000030.5

申请日：2008-03-24

Applicant: 东洋钢钣株式会社

Inventor： 内山义夫 ,  土井博史 ,  石田元

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/73 ,  B24B9/00

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B9/065 ,  B24B37/048 ,  C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C2204/08 ,  G11B5/7315

Abstract: 本发明公开了一种能免去化学强化处理，将化学研磨中的研磨深度降至非常小的程度，来得到具有足够的圆环强度的信息记录磁盘用玻璃基板。其技术方案的要点是，通过对圆环状磁盘用玻璃基板的内周部端面进行机械研磨，使其表面粗糙度以Rmax表示为9nm以下，随后对该内周部端面进行化学研磨，将其表层研磨除去2μm以上。由于通过机械研磨，对内周部端面的表面粗糙度进行了以往没有的镜面加工，因此即使将化学研磨的研磨深度比以往减小，也能得到足够的圆环强度。研磨深度不到5μm即足够。