公开(公告)号：CN107073891A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580057459.8

申请日：2015-08-24

Applicant: 东洋纺株式会社

Inventor： 奥山哲雄 ,  渡边直树 ,  小林一成 ,  土屋俊之 ,  前田乡司

IPC: B32B9/04 ,  B32B27/34 ,  C08J7/00

Abstract: 为了使用以往的玻璃基板或硅基板用的装置提供膜器件，而提供适合制作由可使用的支撑体和高分子膜构成的异物夹入少的层叠体的高分子膜及其制法、以及使用该高分子膜的层叠体。本发明使用一种硅烷偶联剂层层叠高分子膜，其特征在于，其是适合制作至少由支撑体和高分子膜构成的层叠体的高分子膜，并且是在至少一侧的面上形成有硅烷偶联剂层的硅烷偶联剂层层叠高分子膜，该硅烷偶联剂层的表面粗糙度(Sa)为5.0nm以下。另外，作为生产率良好的制造方法，不使用真空来制作该层层叠高分子膜。

公开(公告)号：CN107073891B

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201580057459.8

申请日：2015-08-24

Applicant: 东洋纺株式会社

Inventor： 奥山哲雄 ,  渡边直树 ,  小林一成 ,  土屋俊之 ,  前田乡司

IPC: B32B9/04 ,  B32B27/34 ,  C08J7/00

Abstract: 为了使用以往的玻璃基板或硅基板用的装置提供膜器件，而提供适合制作由可使用的支撑体和高分子膜构成的异物夹入少的层叠体的高分子膜及其制法、以及使用该高分子膜的层叠体。本发明使用一种硅烷偶联剂层层叠高分子膜，其特征在于，其是适合制作至少由支撑体和高分子膜构成的层叠体的高分子膜，并且是在至少一侧的面上形成有硅烷偶联剂层的硅烷偶联剂层层叠高分子膜，该硅烷偶联剂层的表面粗糙度(Sa)为5.0nm以下。另外，作为生产率良好的制造方法，不使用真空来制作该层层叠高分子膜。