公开(公告)号：CN1208685C

公开(公告)日：2005-06-29

申请号：CN01112336.2

申请日：2001-02-14

Applicant: 东洋合成工业株式会社

Inventor： 多田健太郎 ,  渋谷徹

IPC: G03F7/012

CPC classification number: G03F7/012 ,  G03F7/0007

Abstract: 本发明提供了可用于制备光敏树脂的光敏化合物，以及由该化合物制备的光敏树脂，该化合物具有式(I)或(II)表示的基团：见右式，其中：R1表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基；Y选自下式的基团：见右式(III)，其中R2和R3各自表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基，l是1-5的整数；以及Ar选自下式的基团：见右式(IV)，其中X表示锂、钠、钾、铵、一烷基铵、二烷基铵、三烷基铵或四烷基铵。

公开(公告)号：CN1309329A

公开(公告)日：2001-08-22

申请号：CN01112336.2

申请日：2001-02-14

Applicant: 东洋合成工业株式会社

Inventor： 多田健太郎 ,  渋谷徹

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/012 ,  G03F7/0007

Abstract: 本发明提供了可用于制备光敏树脂的光敏化合物,以及由该化合物制备的光敏树脂,该化合物具有式(Ⅰ)或(Ⅱ)表示的基团:其中:R1表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基;Y选自下式的基团:其中R2和R3各自表示氢原子、烷基、芳基或芳烷基,l是1－5的整数,以及Ar选自下式的基团:其中X表示锂、钠、钾、铵、一烷基铵、二烷基铵、三烷基铵或四烷基铵。