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公开(公告)号：CN101435075A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810185927.1
申请日：2004-03-11
Applicant: 东洋制罐株式会社
IPC: C23C16/511 , H01J37/32 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3244 , C23C16/045 , C23C16/45568 , C23C16/45578 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H05H1/46 , H05H2001/463
Abstract: 本发明提供能够在处理基体上形成均匀的薄膜的微波等离子体处理装置和气体供给构件。所述微波等离子体处理装置，具有：将作为处理对象的基体固定在等离子体处理室内的中心轴上的固定构件(unit)，使基体的内部及外部减压的抽气构件，处于基体的内部、形成等离子体处理室与半同轴圆筒共振系统的金属制的处理用气体供给构件，以及将微波引入等离子体处理室进行处理的微波引入构件；其中，在固定构件的支持基体的部分的规定位置上设置微波密封构件，同时将微波引入构件的连接位置形成于等离子体处理室的内部的电场强度分布中电场弱的规定位置。
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公开(公告)号：CN101435075B
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN200810185927.1
申请日：2004-03-11
Applicant: 东洋制罐株式会社
IPC: C23C16/511 , H01J37/32 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3244 , C23C16/045 , C23C16/45568 , C23C16/45578 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H05H1/46 , H05H2001/463
Abstract: 本发明提供能够在处理基体上形成均匀的薄膜的微波等离子体处理装置和气体供给构件。所述微波等离子体处理装置，具有：将作为处理对象的基体固定在等离子体处理室内的中心轴上的固定构件(unit)，使基体的内部及外部减压的抽气构件，处于基体的内部、形成等离子体处理室与半同轴圆筒共振系统的金属制的处理用气体供给构件，以及将微波引入等离子体处理室进行处理的微波引入构件；其中，在固定构件的支持基体的部分的规定位置上设置微波密封构件，同时将微波引入构件的连接位置形成于等离子体处理室的内部的电场强度分布中电场弱的规定位置。
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公开(公告)号：CN100557079C
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200480012989.2
申请日：2004-03-05
Applicant: 东洋制罐株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/505
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/045 , C23C16/463 , C23C16/511 , H01J37/32082 , H01J37/3244
Abstract: 本发明的塑料容器的化学等离子体处理方法，其特征在于向等离子体处理室内供给等离子体处理用气体及微波等的等离子体化用的能量使之产生辉光放电，在塑料容器上形成化学蒸镀膜时，对该塑料容器进行冷却。采用这种方法，塑料容器的变形得到有效地抑制，可长期且连续地在塑料容器内表面上形成化学蒸镀膜，可以显著地提高生产效率。
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公开(公告)号：CN100453695C
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200480006689.3
申请日：2004-03-11
Applicant: 东洋制罐株式会社
IPC: C23C16/511 , B65D1/00 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3244 , C23C16/045 , C23C16/45568 , C23C16/45578 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H05H1/46 , H05H2001/463
Abstract: 本发明提供能够在处理基体上形成均匀的薄膜的微波等离子体处理装置；所述微波等离子体处理装置，具有：将作为处理对象的基体固定在等离子体处理室内的中心轴上的固定构件，使基体的内部及外部减压的抽气构件，处于基体的内部、形成等离子体处理室与半同轴圆筒共振系统的金属制的处理用气体供给构件，以及将微波引入等离子体处理室进行处理的微波引入构件；其中，在固定构件的支持基体的部分的规定位置上设置微波密封构件，同时将微波引入构件的连接位置设定在，形成于等离子体处理室内部的电场强度分布中的、电场强度分布的波节位置。
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公开(公告)号：CN118489181A
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202380015866.7
申请日：2023-02-24
Applicant: 东洋制罐集团控股株式会社 , 东洋钢钣株式会社 , 东洋制罐株式会社
IPC: H01M50/107 , H01M10/04 , H01M50/119 , H01M50/152 , H01M50/159 , H01M50/167 , H01M50/184
Abstract: 一种电池容器(1)，其具备金属制的罐体(2)和罐盖(3)，在成形为有底筒状的罐体(2)的开口部周缘接合有罐盖(3)的周缘部，在所述电池容器(1)中，以包含弯曲面的方式成形罐体(2)的底部(21)，以包含与罐体(2)的底部(21)的成形为弯曲面的部位同样地弯曲的弯曲面的方式成形罐盖(3)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110062670A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201780076860.5
申请日：2017-10-10
Applicant: 东洋制罐株式会社
Abstract: 顺畅地进行螺纹式盖的开闭，当瓶的内压较大时，可靠地进行基于螺纹部的盖的密封。在有底筒状的瓶主体(1A)的上部具有瓶口部(2)，在瓶口部(2)形成螺纹部(3)，在形成螺纹部(3)之后，在瓶口部(2)的顶端形成卷曲部(4)的金属制瓶(1)的制造方法中，当形成螺纹部(3)时，形成为完整螺纹部中的从顶端侧起第1级螺纹牙(3A)的高度与从顶端侧起第2级螺纹牙(3B)的高度大致相等，且第1级螺纹牙(3A)的顶部(30)与瓶轴线(O)的距离(R1)小于第2级螺纹牙(3B)的顶部(30)与瓶轴线(O)的距离(R2)，在形成卷曲部(4)之后，形成为第1级螺纹牙(3A)的顶部(30)与瓶轴线(O)的距离(R1’)和第2级螺纹牙(3B)的顶部(30)与瓶轴线(O)的距离(R2’)大致相等。
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公开(公告)号：CN101511583A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780033290.8
申请日：2007-07-26
Applicant: 东洋制罐株式会社
CPC classification number: B65D23/0821 , C23C16/0272 , C23C16/401 , Y02W90/13 , Y10T428/1352 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明的塑料成形品在塑料基板表面形成有通过等离子CVD法形成的蒸镀膜，该蒸镀膜包含有机硅系蒸镀层和硅氧化物系蒸镀层，所述有机硅系蒸镀层形成于塑料基板1的表面侧、不含氧，所述硅氧化物系蒸镀层形成于有机硅系蒸镀层上。该塑料成形品不仅阻气性良好，还可以有效防止成膜时臭气的产生，且风味保持性优异。
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公开(公告)号：CN1759204A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200480006689.3
申请日：2004-03-11
Applicant: 东洋制罐株式会社
IPC: C23C16/511 , B65D1/00 , H05H1/46
CPC classification number: H01J37/3244 , C23C16/045 , C23C16/45568 , C23C16/45578 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H05H1/46 , H05H2001/463
Abstract: 本发明提供能够在处理基体上形成均匀的薄膜的微波等离子体处理装置和气体供给构件。所述微波等离子体处理装置，具有：将作为处理对象的基体固定在等离子体处理室内的中心轴上的固定构件(unit)，使基体的内部及外部减压的抽气构件，处于基体的内部、形成等离子体处理室与半同轴圆筒共振系统的金属制的处理用气体供给构件，以及将微波引入等离子体处理室进行处理的微波引入构件；其中，在固定构件的支持基体的部分的规定位置上设置微波密封构件，同时将微波引入构件的连接位置形成于等离子体处理室的内部的电场强度分布中电场弱的规定位置。
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公开(公告)号：CN110062670B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201780076860.5
申请日：2017-10-10
Applicant: 东洋制罐株式会社
Abstract: 顺畅地进行螺纹式盖的开闭，当瓶的内压较大时，可靠地进行基于螺纹部的盖的密封。在有底筒状的瓶主体(1A)的上部具有瓶口部(2)，在瓶口部(2)形成螺纹部(3)，在形成螺纹部(3)之后，在瓶口部(2)的顶端形成卷曲部(4)的金属制瓶(1)的制造方法中，当形成螺纹部(3)时，形成为完整螺纹部中的从顶端侧起第1级螺纹牙(3A)的高度与从顶端侧起第2级螺纹牙(3B)的高度大致相等，且第1级螺纹牙(3A)的顶部(30)与瓶轴线(O)的距离(R1)小于第2级螺纹牙(3B)的顶部(30)与瓶轴线(O)的距离(R2)，在形成卷曲部(4)之后，形成为第1级螺纹牙(3A)的顶部(30)与瓶轴线(O)的距离(R1’)和第2级螺纹牙(3B)的顶部(30)与瓶轴线(O)的距离(R2’)大致相等。
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公开(公告)号：CN1788105A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200480012989.2
申请日：2004-03-05
Applicant: 东洋制罐株式会社
IPC: C23C16/44 , C23C16/505
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/045 , C23C16/463 , C23C16/511 , H01J37/32082 , H01J37/3244
Abstract: 本发明的塑料容器的化学等离子体处理方法，其特征在于向等离子体处理室内供给等离子体处理用气体及微波等的等离子体化用的能量使之产生辉光放电，在塑料容器上形成化学蒸镀膜时，对该塑料容器进行冷却。采用这种方法，塑料容器的变形得到有效地抑制，可长期且连续地在塑料容器内表面上形成化学蒸镀膜，可以显著地提高生产效率。
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