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公开(公告)号：CN1795289B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200480014788.6
申请日：2004-03-23
Applicant: 东洋制罐株式会社
Abstract: 蒸镀膜的形成方法，该方法是通过将待处理的基材保持在等离子处理室内，向该处理室内供给有机硅化合物和氧化性气体以进行化学等离子处理来在基材表面上形成由硅氧化物构成的蒸镀膜，在该方法中，通过将等离子处理室内的有机硅化合物气体的供给量维持恒定，并在制备蒸镀膜的制膜过程中使氧化性气体的供给量发生变化，即可获得密合性、柔软性、挠性、氧隔离性和水分隔离性均优良的化学蒸镀膜。
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公开(公告)号：CN101189360B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200680019913.1
申请日：2006-04-03
Applicant: 东洋制罐株式会社
IPC: C23C16/511
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/3277
Abstract: 本发明的蒸镀膜形成方法的特征在于，在真空区域内配置利用微波的表面波发生装置(10)，使塑料薄膜基材(13)以面对该表面波发生装置的方式连续地移动到该真空区域内，并且将至少含有有机金属化合物的反应气体连续地供给到该真空区域内，借助来自该表面波发生装置(10)的微波的表面波来执行等离子体反应，从而在上述薄膜基材(13)表面上连续地形成蒸镀膜。根据该方法，能够通过微波的表面波等离子体，在薄膜基材表面上、特别是长条薄膜的表面上连续地形成蒸镀膜。
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公开(公告)号：CN101189360A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200680019913.1
申请日：2006-04-03
Applicant: 东洋制罐株式会社
IPC: C23C16/511
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/3277
Abstract: 本发明的蒸镀膜形成方法的特征在于，在真空区域内配置利用微波的表面波发生装置(10)，使塑料薄膜基材(13)以面对该表面波发生装置的方式连续地移动到该真空区域内，并且将至少含有有机金属化合物的反应气体连续地供给到该真空区域内，借助来自该表面波发生装置(10)的微波的表面波来执行等离子体反应，从而在上述薄膜基材(13)表面上连续地形成蒸镀膜。根据该方法，能够通过微波的表面波等离子体，在薄膜基材表面上、特别是长条薄膜的表面上连续地形成蒸镀膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119894656A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202380070271.1
申请日：2023-12-20
Applicant: 东洋制罐株式会社 , 东洋制罐集团控股株式会社
IPC: B29B11/08 , B29B7/48 , B29B7/84 , B29B13/02 , B29C31/02 , B29C45/00 , B29C48/275 , B29C48/40 , B29C48/69 , B29C48/76 , C08J11/06
Abstract: 虽然使用将所回收的聚酯系树脂成形品粉碎成薄片状而得到的树脂薄片，但会更高效地制造期望特性的预制件。对将所回收的聚酯系树脂成形品粉碎成薄片状而得到的树脂薄片在减压条件下进行加热处理，将实施了加热处理的树脂薄片与由聚酯系树脂的原始材料、生物质材料、化学回收利用材料或机械回收利用材料中的至少一种构成的树脂粒料以规定的比率混合而制备原材料树脂，从将该原材料树脂增塑而得到的熔融树脂中去除异物，并且将熔融树脂供给至注塑成形装置而注塑成形预制件。
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公开(公告)号：CN119894655A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202380070236.X
申请日：2023-12-06
Applicant: 东洋制罐株式会社 , 东洋制罐集团控股株式会社
Abstract: 由将所回收的聚酯系树脂成形品粉碎成薄片状而得到的树脂薄片更高效且更低成本地制造预制件。准备将所回收的聚酯系树脂成形品粉碎成薄片状而得到的树脂薄片，在减压条件下对该树脂薄片进行加热处理后进行增塑，从将树脂薄片增塑而得到的熔融树脂中去除异物，并且将熔融树脂供给至注塑成形装置而注塑成形预制件。
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公开(公告)号：CN101163817B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200680013444.2
申请日：2006-02-07
Applicant: 东洋制罐株式会社
Abstract: 本发明的蒸镀膜通过使用有机金属化合物和氧化性气体作为反应气体的等离子体CVD法而形成在基体表面，以来源于上述有机金属化合物的金属元素(M)、氧(O)和碳(C)3种元素为基准，上述蒸镀膜划分为碳浓度为5元素％以上的基体侧粘结层、碳浓度不到5元素％的阻挡性中间层、和碳浓度为5元素％以上的表面保护层。该蒸镀膜不仅对基体的附着性良好，而且对水分、特别是碱水溶液的耐受性也优异。
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公开(公告)号：CN101163817A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200680013444.2
申请日：2006-02-07
Applicant: 东洋制罐株式会社
Abstract: 本发明的蒸镀膜通过使用有机金属化合物和氧化性气体作为反应气体的等离子体CVD法而形成在基体表面，以来源于上述有机金属化合物的金属元素(M)、氧(O)和碳(C)3种元素为基准，上述蒸镀膜划分为碳浓度为5元素％以上的基体侧粘结层、碳浓度不到5元素％的阻挡性中间层、和碳浓度为5元素％以上的表面保护层。该蒸镀膜不仅对基体的附着性良好，而且对水分、特别是碱水溶液的耐受性也优异。
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公开(公告)号：CN1795289A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200480014788.6
申请日：2004-03-23
Applicant: 东洋制罐株式会社
Abstract: 蒸镀膜的形成方法，该方法是通过将待处理的基材保持在等离子处理室内，向该处理室内供给有机硅化合物和氧化性气体以进行化学等离子处理来在基材表面上形成由硅氧化物构成的蒸镀膜，在该方法中，通过将等离子处理室内的有机硅化合物气体的供给量维持恒定，并在制备蒸镀膜的制膜过程中使氧化性气体的供给量发生变化，即可获得密合性、柔软性、挠性、氧隔离性和水分隔离性均优良的化学蒸镀膜。
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