公开(公告)号：CN117120104A

公开(公告)日：2023-11-24

申请号：CN202280024665.9

申请日：2022-03-24

Applicant: 东曹株式会社 ,  公益财团法人相模中央化学研究所

Inventor： 坪井裕基 ,  仲岛良平 ,  中村拓梦 ,  须藤幸德 ,  小林修 ,  小俣大智 ,  布川真理奈

IPC: A61L9/01

Abstract: 提供即便在进行水洗、洗涤的情况下也显示出比现有技术更优异的醛捕捉效果的消臭性组合物。使用一种消臭性组合物，其特征在于，包含粘结剂树脂和通过化学键合而负载有氨基氧基烷基的载体。

公开(公告)号：CN119546673A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202380052563.2

申请日：2023-07-24

Applicant: 东曹株式会社 ,  公益财团法人相模中央化学研究所

Inventor： 须藤幸德 ,  小林修 ,  布川真理奈

IPC: C08G77/26 ,  A61L9/01 ,  B01J20/26 ,  B01J20/28 ,  B01J20/30 ,  C08G79/00 ,  D06M15/643

Abstract: 提供捕捉效率和耐水性优异的除臭剂。使用具有下述通式(1)所示的结构单元的含氨氧基烷基的聚硅氧烷。#imgabs0#

公开(公告)号：CN113785085A

公开(公告)日：2021-12-10

申请号：CN202080019987.5

申请日：2020-04-03

Applicant: 东曹株式会社 ,  公益财团法人相模中央化学研究所

Inventor： 杉本俊 ,  千叶洋一 ,  田中陵二 ,  布川真理奈

IPC: C23C16/42 ,  B32B9/00 ,  B32B27/00 ,  C07F7/18 ,  C23C16/18 ,  C23C16/505

Abstract: 本发明提供即使是薄膜也显示出高阻气性能的氧化硅膜。该氧化硅膜满足下述(1)及(2)的要件：(1)膜厚500nm以下时的水蒸气透过率(WVTR)为9.0×10‑3g/m2·天以下。(2)通过X射线光电子能谱法(XPS)测定的膜中碳浓度为3.0atom％以下。