基于空间光调制器生成矢量光场实现PVG的制备方法及装置

    公开(公告)号:CN119535660A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411788313.8

    申请日:2024-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种基于空间光调制器生成矢量光场实现PVG的制备方法及装置,装置包括:照明系统、相位设计系统、曝光系统。照明系统主要有激光器和扩束器组装成,相位设计系统由两个空间光调制器(Spatial Light Modulator,SLM)组成,分别命名为相位设计系统1和相位设计系统2。其中照明系统与相位设计系统1在中心线上排序,相位设计系统2与曝光成像系统在垂直中心线上工作。本发明大大提高了制作偏振体全息波导的灵活性,通过可编程的电控元件SLM进行相位调控控制横向周期,减少传统方式通过手动调节反射镜带来的实验误差;同时不同于传统干涉曝光的方法,整个系统具有较强的鲁棒性;此外相比于分离式干涉光路,使用一个扩束器,避免了扩束过程中光束一致性问题。

    一种偏振全息光学元件及其制备方法

    公开(公告)号:CN119758510A

    公开(公告)日:2025-04-04

    申请号:CN202510252433.4

    申请日:2025-03-05

    Abstract: 本发明公开了一种偏振全息光学元件及其制备方法,包括:基板层、各向异性介质层;其中,所述基板层,包括基板、表面起伏微结构层,所述表面起伏微结构层,包括起伏微结构,所述起伏微结构呈阵列方式排列在基板上,所述各向异性介质层采用液晶材料。本发明提供的一种偏振全息光学元件及其制备方法,减小了偏振全息光学元件制备难度,并且表面微结构的大小和角度可控拓展了偏振全息光学系统的设计优化维度,为实现大规模偏振全息光学元件的生产和应用提供可能性。

    一种无介质全息成像系统及其工作方法

    公开(公告)号:CN119045297A

    公开(公告)日:2024-11-29

    申请号:CN202411198538.8

    申请日:2024-08-29

    Abstract: 本发明公开了一种无介质全息成像系统及其工作方法,包括:光源部分、投影系统部分,所述光源部分和投影系统部分在成像系统的中心线上顺序排列;所述投影系统部分包括:在成像系统的中心线上依次设置的投影透镜,可调节反射角的反射镜和交叠反射镜阵列。本发明大大提高了无介质全息成像系统的适用性,可以通过控制器件来控制成像大小和距离,并且不需要通过直接改变像源位置来改变入射光的位置,同时缩短了某一方向的光路长度,减小了系统整体大小,还可基于实际所需结构进行实时调整。

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