-
公开(公告)号:CN110632126A
公开(公告)日:2019-12-31
申请号:CN201910831922.X
申请日:2019-09-04
Applicant: 东华大学 , 中电科技集团重庆声光电有限公司
IPC: G01N27/12
Abstract: 本发明涉及一种有机磷化合物传感器及其制备方法,制备方法为:先通过旋转涂膜法在金叉指电极表面形成氧化剂膜,再以功能化单体为原料,通过化学气相沉积聚合法在其表面形成功能化导电聚合物膜制得有机磷化合物传感器,功能化单体为功能化3,4-乙烯二氧噻吩 功能化苯胺或功能化吡咯 其中,R为-OH、-COOH或制得的有机磷化合物传感器主要由金叉指电极以及沉积在其表面的功能化导电聚合物膜组成。本发明的一种有机磷化合物传感器的制备方法,简单易行;制得的有机磷化合物传感器可检测10ppb~100ppm的甲基膦酸二甲酯(DMMP),且具有良好的灵敏性、选择性和稳定性。
-
公开(公告)号:CN110600166A
公开(公告)日:2019-12-20
申请号:CN201910831935.7
申请日:2019-09-04
Applicant: 东华大学 , 中电科技集团重庆声光电有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基底支撑的功能化导电聚合物膜及其制备方法,制备方法为:先通过旋转涂膜法在基底表面形成氧化剂膜,再以所述功能化单体为原料,通过化学气相沉积聚合法在其表面形成功能化导电聚合物膜制得基底支撑的功能化导电聚合物膜,功能化单体为功能化3,4-乙烯二氧噻吩 功能化苯胺 或功能化吡咯 其中,R为-OH、-COOH或 制得的一种基底支撑的功能化导电聚合物膜,主要由基底以及沉积在其表面的功能化导电聚合物膜组成,基底为二氧化硅片、玻璃片或单晶硅片,功能化导电聚合物由功能化单体聚合而成。本发明的方法简单易行;制得的一种基底支撑的功能化导电聚合物膜与基底接触良好,导电性能优异。
-
-
公开(公告)号:CN110600166B
公开(公告)日:2021-04-06
申请号:CN201910831935.7
申请日:2019-09-04
Applicant: 东华大学 , 中电科技集团重庆声光电有限公司
Abstract: 本发明涉及一种基底支撑的功能化导电聚合物膜及其制备方法,制备方法为:先通过旋转涂膜法在基底表面形成氧化剂膜,再以所述功能化单体为原料,通过化学气相沉积聚合法在其表面形成功能化导电聚合物膜制得基底支撑的功能化导电聚合物膜,功能化单体为功能化3,4‑乙烯二氧噻吩功能化苯胺或功能化吡咯其中,R为‑OH、‑COOH或制得的一种基底支撑的功能化导电聚合物膜,主要由基底以及沉积在其表面的功能化导电聚合物膜组成,基底为二氧化硅片、玻璃片或单晶硅片,功能化导电聚合物由功能化单体聚合而成。本发明的方法简单易行;制得的一种基底支撑的功能化导电聚合物膜与基底接触良好,导电性能优异。
-
公开(公告)号:CN113150217A
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN202110123537.7
申请日:2021-01-29
Applicant: 中国人民解放军军事科学院防化研究院 , 东华大学
IPC: C08F279/02 , C08F212/08 , C08F222/14 , C08F283/12 , C08F210/14 , C08F212/36 , C08F232/04 , C08F226/06 , C08F220/18 , C08L51/04 , C08L51/08 , C08J5/18
Abstract: 本发明公开了一种可剥离去污膜及其制备方法,属于高分子材料领域。该可剥离去污膜的原料由橡胶、单体、交联剂、可见光引发剂体系、去污剂组成。其制备方法的步骤为:将橡胶、单体按比例混溶,向其中加入交联剂、可见光引发剂体系及助剂混匀,得到可剥离去污膜的原料混合物;将原料混合物在可见光光源下照射,即得可剥离膜。本发明所提供的可剥离去污膜具有成膜快速且环境适应性好,机械强度优异以及可剥离性好的特点,特别适用于放射性去污等领域。
-
公开(公告)号:CN112917750A
公开(公告)日:2021-06-08
申请号:CN202110125468.3
申请日:2021-01-29
Applicant: 东华大学
Abstract: 本发明涉及一种基于可剥离膜的全自动放射性去污装置,包括无人驾驶车体、基膜架、储胶槽、涂胶辊、压胶辊、固化光源、剥离辊和回收辊,基膜架、涂胶辊、压胶辊、固化光源、剥离辊和回收辊沿基膜的输送方向设置在无人驾驶车体上,储胶槽设置在涂胶辊的正上方并能够向涂胶辊上的基膜供胶,压胶辊和剥离辊安装在无人驾驶车体的下方且压胶辊和剥离辊的底端与无人驾驶车体的车轮底端平齐,固化光源安装在无人驾驶车体的下方且与压胶辊和剥离辊的底端在竖向存在间距。本发明能够解决现有去污装置中存在的不能连续操作、成膜慢、不能喷涂高粘度液体的问题。
-
-
-
-
-