一种基于反向外延生长法用于纯相001晶向Ni3S2纳米晶的制备方法

    公开(公告)号:CN119900069A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202510081958.6

    申请日:2025-01-20

    Abstract: 本发明涉及纳米晶体材料技术领域,具体涉及一种基于反向外延生长法用于纯相001晶向Ni3S2纳米晶的制备方法,S1.1、先对金属衬底预处理,以充分去除表面汗渍、油污、氧化皮、残留酸液的杂质;S1.2、在气氛下,将诱变晶种置于水热釜中,加入45‑50mL液相递质,再将预处理后的金属衬底用聚四氟乙烯线悬挂于液层下,封存好后在155‑160℃加热10‑12h,待冷却后取出金属衬底,用乙醇和去离子水轮流清洗三次,得到Ni3S2纳米晶;采用反向外延生长法,利用薄膜的反应性,有选择性地诱变衬底结构,实现了对Ni3S2晶体生长方向的有效控制,得到纯相且具备特定晶面的Ni3S2晶体,同时诱变晶种参与反应后以金属粉形式自行脱落,免除了产物分离的工序,简化了工艺流程。

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