公开(公告)号：CN101597755B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200910012260.X

申请日：2009-06-26

Applicant: 东北大学

Inventor： 刘常升 ,  王恭凯 ,  张滨 ,  陈岁元 ,  梁京 ,  国玉军

IPC: C23C16/48 ,  C23C16/24

Abstract: 采用激光在硅钢表面制备高硅涂层的方法，按以下步骤进行：(1)将热轧无取向低硅钢表面清洗、喷砂处理；(2)将低硅钢置于真空条件下，然后在氩气和硅烷的混合气氛中进行激光照射，制备出沉积涂层；(3)置于真空条件下，加热至700～1100℃，保温2～6h，制备出高硅涂层。本发明的方法提高了渗硅效率，实现了快速渗硅；采用无氯硅源避免FeCl2的生成造成铁的损失并改善材料表面质量；对渗硅过程进行局部化约束来减少和避免尾气对原料气的稀释和污染。

公开(公告)号：CN101597755A

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200910012260.X

申请日：2009-06-26

Applicant: 东北大学

Inventor： 刘常升 ,  王恭凯 ,  张滨 ,  陈岁元 ,  梁京 ,  国玉军

IPC: C23C16/48 ,  C23C16/24

Abstract: 采用激光在硅钢表面制备高硅涂层的方法，按以下步骤进行：(1)将热轧无取向低硅钢表面清洗、喷砂处理；(2)将低硅钢置于真空条件下，然后在氩气和硅烷的混合气氛中进行激光照射，制备出沉积涂层；(3)置于真空条件下，加热至700～1100℃，保温2～6h，制备出高硅涂层。本发明的方法提高了渗硅效率，实现了快速渗硅；采用无氯硅源避免FeCl2的生成造成铁的损失并改善材料表面质量；对渗硅过程进行局部化约束来减少和避免尾气对原料气的稀释和污染。