-
公开(公告)号：CN110846629A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201910949463.5
申请日：2019-10-08
Applicant: 东北大学
Abstract: 本发明属于电磁波吸收材料领域，具体涉及一种基于YIG薄膜材料的微波吸收体及其制备方法。所涉及的镀膜方法有射频磁控溅射、化学气相沉积、液相外延和脉冲激光沉积等；所涉及的吸波体是在基体表面沉积的一层薄膜材料。所述基体可以为硅基片、钆镓石榴石基片、玻璃基片、氧化镁基片的一种；所述薄膜可以为YIG单晶薄膜、掺杂的YIG薄膜、可移动磁畴的Gd:Ga:YIG薄膜的一种。本发明主要利用YIG靶材在基片上沉积YIG薄膜，所制备的YIG薄膜具有吸波频带宽、吸波性能好等优点，可广泛应用于吸波材料领域。
Search Results
1
records
(took 0.015 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
