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公开(公告)号:CN105040020A
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201510484983.5
申请日:2015-08-10
Applicant: 东北大学
IPC: C25B1/00
Abstract: 一种利用离子液体低温电解SiO2制取高纯硅薄膜的方法,按以下步骤进行:(1)准备电解质的原料氟化咪唑离子液体、冰晶石、氢氟酸溶液和二氧化硅;(2)在电解槽内制成电解质,在惰性气体流通和搅拌条件下电解二氧化硅;(3)电解过程中补加二氧化硅;(4)每隔1~2h更换工作电极;(5)将硅膜剥落清洗烘干。本发明的方法相可以在低温下电沉积硅,得到的硅纯度高;为低成本、低污染的太阳能级硅薄膜绿色制备提供技术储备。
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公开(公告)号:CN105040020B
公开(公告)日:2017-03-22
申请号:CN201510484983.5
申请日:2015-08-10
Applicant: 东北大学
IPC: C25B1/00
Abstract: 一种利用离子液体低温电解SiO2制取高纯硅薄膜的方法,按以下步骤进行:(1)准备电解质的原料氟化咪唑离子液体、冰晶石、氢氟酸溶液和二氧化硅(;2)在电解槽内制成电解质,在惰性气体流通和搅拌条件下电解二氧化硅;(3)电解过程中补加二氧化硅;(4)每隔1~2h更换工作电极(;5)将硅膜剥落清洗烘干。本发明的方法相可以在低温下电沉积硅,得到的硅纯度高;为低成本、低污染的太阳能级硅薄膜绿色制备提供技术储备。
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